[发明专利]一种用于皮肤补水消炎祛痘的水凝胶敷料在审

专利信息
申请号: 202211157462.5 申请日: 2022-09-22
公开(公告)号: CN115487347A 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 崔大祥;沈琦;彭家伟 申请(专利权)人: 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
主分类号: A61L26/00 分类号: A61L26/00
代理公司: 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 代理人: 董梅
地址: 201109 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 皮肤 消炎 凝胶 敷料
【说明书】:

发明公开了一种用于皮肤补水消炎祛痘的水凝胶敷料,水凝胶的主要材料为非离子聚丙烯酰胺,非离子聚丙烯酰胺的分子量为10,000,000‑30,000,000,用于皮肤补水的材料为透明质酸,用于伤口消炎的材料为青链霉素混合液,该水凝胶敷料的pH值为5‑6,可作为敷料涂抹在皮肤上,用于阻隔毛孔和外界环境的接触,给皮肤补水的同时可以保持皮肤透气,给皮肤消炎祛痘。

技术领域

本发明涉及美容医学技术领域,具体涉及一种用于皮肤补水消炎祛痘的水凝胶敷料。

背景技术

皮肤由几层覆盖和保护构成其结构骨架的角蛋白和胶原纤维蛋白的细胞组成,这些层的最外层,称之为角质层,已知是由80A厚的层包围的250A蛋白束所组成。阴离子表面活性剂和有机溶剂典型地穿透角质层膜,并且通过脱脂化作用(即是从角质层去除脂类)破坏其完整。皮肤表面构形的破坏导致粗糙的感觉并可能最终让表面活性剂或溶剂接触角蛋白,产生刺激感。当角质层被破坏后,暴露出的肌肤如果不进行抗菌处理,很容易导致创口反复发炎,无法有效愈合。同时,保持穿过角质层的适当的水分梯度对其功能是重要的。这类水的很大部分来自体内,水有时被看作是角质层的增塑剂。如果湿度太低,象在寒冷的气候下,没有足够的水保留在角质层的外层以适当地增塑组织;并且皮肤开始起皮并且变得瘙痒。当没有充足的水分穿过角质层时,皮肤的透过性也在某种程度上降低。加一方面,皮肤的外层上的水太多会引起角质层最终吸收其自重三至五倍的结合水,这样便使皮肤膨胀和起皱,导至皮肤对水和其它极性分子的透过性增加约二至三倍。痤疮的发生主要与皮脂分泌过多、毛囊皮脂腺导管堵塞、细菌感染和炎症反应等因素密切相关。进入青春期后人体内雄激素特别是睾酮的水平迅速升高,促进皮脂腺发育并产生大量皮脂。同时毛囊皮脂腺导管的角化异常造成导管堵塞,皮脂排出障碍,形成角质栓即微粉刺。毛囊中多种微生物尤其是痤疮丙酸杆菌大量繁殖,痤疮丙酸杆菌产生的脂酶分解皮脂生成游离脂肪酸,同时趋化炎症细胞和介质,最终诱导并加重炎症反应。所以,本发明将水凝胶敷料、透明质酸、青链霉素混合液和1%皮肤祛痘精华液相结合,制备出一种用于皮肤补水、消炎祛痘的水凝胶敷料。

发明内容

为了解决以上技术问题,本发明目的在于提供了一种用于皮肤补水消炎祛痘的水凝胶敷料。

本发明目的通过以下方案是实现:一种用于皮肤补水消炎祛痘的水凝胶敷料,是以10,000,000-30,000,000的非离子聚丙烯酰胺为基底制备的水凝胶,至少包括皮肤补水材料。

所述的皮肤补水材料为透明质酸,聚丙烯酰胺与透明质酸的质量比为3:1。

进一步的,可以添加用于伤口消炎的材料,该材料为青链霉素混合液,添加量为0.5-1%。

用于皮肤补水消炎祛痘的水凝胶敷料的pH值不大于6。

进一步的,也可以添加1%皮肤祛痘精华液,添加量为1-2%。

本发明以高分子量的水凝胶为基底材料,可以很好地包覆在创口表面,不易脱落,有效阻隔创口和环境的接触。同时,敷料里含有的补水材料,如透明质酸以其独特的分子结构和理化性质在机体内显示出多种重要的生理功能,如调节血管壁的通透性,调节蛋白质,水电解质扩散及运转,促进创伤愈合等。添加青链霉素混合液可以有效地消灭皮肤表面原有的未处理干净的细菌。最后,皮肤祛痘精华液可以有效保证皮肤的水分梯度,抑制炎症的发生,使创口的恢复加快。

有益效果:

本发明公开的一种用于皮肤补水、消炎祛痘的水凝胶敷料,是通过合理搭配制剂制备的一款适用于各个部位皮肤的用于皮肤补水、消炎祛痘的水凝胶敷料。配方中的水凝胶基底可以很好地包覆在创口表面,有效阻隔创口和环境的接触。透明质酸可以调节血管壁的通透性,调节蛋白质,水电解质扩散及运转,促进创伤愈合。青链霉素混合液可以有效地消灭皮肤表面原有的未处理干净的细菌。皮肤祛痘精华液可以有效抑制痤疮的再生。本发明通过多成分的联合配方使用,完善单一产品的效果缺陷,把敷料的复合配方直接作用于主要成分的相应层次,减少单一产品的功能障碍,更大完善皮肤补水、消炎祛痘的需求。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司,未经上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211157462.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top