[发明专利]衬底处理装置

权利要求书

1.一种衬底处理装置，具备：

旋转基座，设置为能以铅直延伸的第1旋转轴线为中心旋转；

多根夹盘销，配置在所述旋转基座的周缘部；

洗净机构，配置在衬底的上方，将所述衬底的上表面物理性洗净；及

提升销，使所述衬底在第1高度位置、与比所述第1高度位置低的第2高度位置之间升降；且

所述多根夹盘销构成为在所述第2高度位置将所述衬底水平固持；

所述多根夹盘销具有在固持所述衬底时抵接于所述衬底的抵接面、及从所述抵接面的下端朝相对于铅直方向交叉的方向延伸的对向面；且

所述对向面在所述多根夹盘销固持着所述衬底的状态下，与所述衬底的下表面对向；

在所述多根夹盘销固持着所述衬底的状态下，所述对向面与所述旋转基座的周缘部的上表面相邻，且配置在与所述旋转基座的周缘部的上表面大致相同的高度；

所述旋转基座于上表面具有喷出气体的气体喷出口。

2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中在所述衬底因从所述气体喷出口喷出的所述气体而朝上方向变形为凸形状的状态下，所述洗净机构将所述衬底的上表面洗净。

3.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置，其中所述旋转基座的周缘部的上表面、与所述衬底的下表面的距离为2mm以下。

4.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其中所述旋转基座的周缘部的上表面、与所述衬底的下表面的距离为1mm以下。

5.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其中所述旋转基座具有所述周缘部、及相对于所述周缘部配置在径向内侧的中央部；且

所述中央部的上表面配置在比所述周缘部的上表面低的位置。

6.根据权利要求5所述的衬底处理装置，其中所述中央部的上表面为设置着所述气体喷出口的平坦面。

7.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置，其中一边从所述气体喷出口每分钟喷出100升以上的所述气体，一边由所述洗净机构将所述衬底的上表面洗净。

8.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置，其中所述洗净机构包含被按压到所述衬底的上表面的刷子。