[发明专利]一种四色焦平面探测器的制作方法及四色图像获取方法在审

专利信息
申请号: 202211071907.8 申请日: 2022-09-02
公开(公告)号: CN115574947A 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 冯斌;冀若楠;冯萍 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: G01J5/0803 分类号: G01J5/0803
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 李薇
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 四色焦 平面 探测器 制作方法 图像 获取 方法
【权利要求书】:

1.一种四色焦平面探测器的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

S11:设计基底、第1色滤光膜和第2色滤光膜的工作波段范围;

S12:利用所述基底、所述第1色滤光膜和所述第2色滤光膜制作2×2栅格周期排布的四色微滤光片阵列光学器件,所述四色微滤光片阵列光学器件包括多个呈阵列排布的四色微滤光片单元块,其中每个所述四色微滤光片单元块包括2×2个微滤光片单元;

S13:将所述四色微滤光片阵列光学器件以悬空式集成至焦平面探测器的焦平面,形成四色焦平面探测器。

2.根据权利要求1所述的四色焦平面探测器的制作方法,其特征在于,所述基底、所述第1色滤光膜和所述第2色滤光膜的工作波段范围满足的约束条件包括:

所述基底的工作波段范围覆盖所述焦平面探测器的工作波段范围;

所述第1色滤光膜和所述第2色滤光膜的工作波段范围具有交集;

所述第1色滤光膜和所述第2色滤光膜的工作波段范围的并集小于所述焦平面探测器的工作波段范围。

所述四色微滤光片阵列光学器件中任意相邻的两个微滤光片具有不同的工作波段范围。

3.根据权利要求1所述的四色焦平面探测器的制作方法,其特征在于,步骤S12包括:

S121:在基底上镀制梳状周期排布的多条所述第1色滤光膜;

S122:沿着所述第1色滤光膜延展方向的垂直方向,在所述基底上镀制梳状周期排布的多条所述第2色滤光膜,形成四色微滤光片阵列光学器件。

4.根据权利要求3所述的四色焦平面探测器的制作方法,其特征在于,所述第1色滤光膜和所述第2色滤光膜分布于所述基底的同一表面、不同表面中的任意一种。

5.根据权利要求3所述的四色焦平面探测器的制作方法,其特征在于,多条所述第1色滤光膜在所述基底表面呈梳状周期排布,其中单条所述第1色滤光膜的宽度等于其排布周期的1/2;多条所述第2色滤光膜在所述基底表面呈梳状周期排布,其中单条所述第2色滤光膜的宽度等于其排布周期的1/2。

6.根据权利要求1所述的四色焦平面探测器的制作方法,其特征在于,步骤S13包括:

S131:在所述焦平面探测器的焦平面的光敏面的周边设置凸台,将所述四色微滤光片阵列光学器件设置在所述焦平面探测器的凸台上,以使所述四色微滤光片阵列光学器件与所述焦平面探测器的像元阵列之间具有轴向间隙,其中,所述四色微滤光片阵列光学器件与所述焦平面探测器的像元阵列对齐,所述焦平面探测器的每个像元在空间上对准一个微滤光片;

S132:在微滤光片阵列与焦平面探测器的像元阵列的相对位置对准状态下,通过在所述微滤光片阵列光学器件的侧面点胶固化,形成所述四色焦平面探测器。

7.一种四色图像获取方法,其特征在于,包括如下步骤:

S21:在均匀光照条件下,获取权利要求1至权利要求6任一项所述的四色焦平面探测器的制作方法所制备的四色焦平面探测器的四类像元各自输出的平均值;

S22:获取所述四色焦平面探测器所输出的原始图像;

S23:基于所述四色焦平面探测器所输出的原始图像,利用图像超分辨方法重构出四幅全分辨率单色图像;

S24:利用工作波段范围去交集处理方法,解构出四幅工作波段无交集的全分辨率单色图像。

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