[发明专利]一种指定晶体含量的PBX材料细观结构建模方法在审
| 申请号: | 202211036436.7 | 申请日: | 2022-08-29 |
| 公开(公告)号: | CN115438539A | 公开(公告)日: | 2022-12-06 |
| 发明(设计)人: | 龙旭;朱佳琦;苏昱太;刘永超 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
| 主分类号: | G06F30/23 | 分类号: | G06F30/23;G16C60/00;G16C20/80;G06F111/08;G06F111/10 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 710072 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 指定 晶体 含量 pbx 材料 结构 建模 方法 | ||
1.一种指定晶体含量的PBX材料细观结构建模方法,其特征在于:基于传统Voronoi模型,建立PBX材料的晶界平移算法,通过调整粘结剂的尺寸lc,生成指定晶体含量的PBX材料细观结构,该方法可以描述PBX材料晶粒间的粘结剂成分,为后续进行PBX细观结构分析提供模型输入。它包括如下步骤:
步骤1:确定PBX细观结构的二维模型边界范围,在此范围内,随机生成N个离散点,自动构建三角网,形成传统的Voronoi模型获取每个晶粒的顶点;
步骤2:定义偏移函数,给定粘结剂的初始宽度lc,调整晶粒顶点,将其向中心点偏移,获取偏移顶点后的细观结构模型;
步骤3:计算晶体含量C,及其与目标晶体含量C0的偏差σ;
步骤4:获取指定晶体含量PBX材料晶粒及其顶点坐标,确定最终lc的数值(lc=lc0),在有限元软件中建立指定晶体含量的PBX炸药细观结构模型。
2.根据权利要求1所述的确定PBX细观结构的二维模型边界范围,其特征在于:在步骤1中设PBX材料细观结构在x轴、y轴的范围,x∈[X0,X1],y∈[Y0,Y1],其中X0为该结构的左边界,X1为该结构的右边界,Y0为该结构的下边界,Y1为该结构上边界。
3.根据权利要求1所述的形成传统的Voronoi模型,其特征在于:在步骤1确定的PBX细观结构二维模型边界范围内,随机生成N个离散点,其中N为PBX材料中的晶粒数量。由这些离散点自动构建三角网,计算每个三角形的外接圆圆心,寻找与三角形三边共边的相邻三角形,若存在,则把该三角形的外心与相邻三角形的外心连接,否则取最外边的中垂线射线作为晶粒边界,形成传统的Voronoi模型并提取每个晶粒的顶点。
4.根据权利要求1所述的调整晶粒顶点,将其向中心点偏移,其特征在于:在步骤2中定义偏移函数,其中定义偏移函数时,设晶粒某一顶点为A,相邻两个顶点分别为B和C;
①向量表示:
AB=((xB-xA),(yB-yA))
AC=((xC-xA),(yC-yA))
其中,x、y分别表示横纵坐标的数值。
②求两点之间的距离为:
③求AB和AC之间的角度:
AB·AC=xAB×xAC+yAB×yAC
④求偏移的距离:
其中,lc为晶界的宽度。
⑤求偏移的方向:
将向量AB、AC归一化:
偏移方向为:
⑥求偏移后的坐标:
偏移后的点为:
A′=(xA′,yA′)。
5.根据权利要求1所述的计算晶体含量C,及其与目标晶体含量C0的偏差σ,其特征在于:在步骤3中计算出在粘结剂的初始宽度lc0下所生成模型的晶体含量C,其中,晶体含量C定义为
C=A/S
其中A为晶粒面积和,S为模型总面积。
定义初始晶体含量C与目标晶体含量C0的偏差σ为
式中,若偏差值小于0.01且大于-0.01,进入步骤4;若偏差值大于等于0.01,增大lc0,返回步骤2继续计算;若偏差值大于等于-0.01,减小lc0,返回步骤2继续计算。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西北工业大学,未经西北工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211036436.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





