[发明专利]一种指定晶体含量的PBX材料细观结构建模方法在审

专利信息
申请号: 202211036436.7 申请日: 2022-08-29
公开(公告)号: CN115438539A 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 龙旭;朱佳琦;苏昱太;刘永超 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: G06F30/23 分类号: G06F30/23;G16C60/00;G16C20/80;G06F111/08;G06F111/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710072 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 指定 晶体 含量 pbx 材料 结构 建模 方法
【权利要求书】:

1.一种指定晶体含量的PBX材料细观结构建模方法,其特征在于:基于传统Voronoi模型,建立PBX材料的晶界平移算法,通过调整粘结剂的尺寸lc,生成指定晶体含量的PBX材料细观结构,该方法可以描述PBX材料晶粒间的粘结剂成分,为后续进行PBX细观结构分析提供模型输入。它包括如下步骤:

步骤1:确定PBX细观结构的二维模型边界范围,在此范围内,随机生成N个离散点,自动构建三角网,形成传统的Voronoi模型获取每个晶粒的顶点;

步骤2:定义偏移函数,给定粘结剂的初始宽度lc,调整晶粒顶点,将其向中心点偏移,获取偏移顶点后的细观结构模型;

步骤3:计算晶体含量C,及其与目标晶体含量C0的偏差σ;

步骤4:获取指定晶体含量PBX材料晶粒及其顶点坐标,确定最终lc的数值(lc=lc0),在有限元软件中建立指定晶体含量的PBX炸药细观结构模型。

2.根据权利要求1所述的确定PBX细观结构的二维模型边界范围,其特征在于:在步骤1中设PBX材料细观结构在x轴、y轴的范围,x∈[X0,X1],y∈[Y0,Y1],其中X0为该结构的左边界,X1为该结构的右边界,Y0为该结构的下边界,Y1为该结构上边界。

3.根据权利要求1所述的形成传统的Voronoi模型,其特征在于:在步骤1确定的PBX细观结构二维模型边界范围内,随机生成N个离散点,其中N为PBX材料中的晶粒数量。由这些离散点自动构建三角网,计算每个三角形的外接圆圆心,寻找与三角形三边共边的相邻三角形,若存在,则把该三角形的外心与相邻三角形的外心连接,否则取最外边的中垂线射线作为晶粒边界,形成传统的Voronoi模型并提取每个晶粒的顶点。

4.根据权利要求1所述的调整晶粒顶点,将其向中心点偏移,其特征在于:在步骤2中定义偏移函数,其中定义偏移函数时,设晶粒某一顶点为A,相邻两个顶点分别为B和C;

①向量表示:

AB=((xB-xA),(yB-yA))

AC=((xC-xA),(yC-yA))

其中,x、y分别表示横纵坐标的数值。

②求两点之间的距离为:

③求AB和AC之间的角度:

AB·AC=xAB×xAC+yAB×yAC

④求偏移的距离:

其中,lc为晶界的宽度。

⑤求偏移的方向:

将向量AB、AC归一化:

偏移方向为:

⑥求偏移后的坐标:

偏移后的点为:

A′=(xA′,yA′)。

5.根据权利要求1所述的计算晶体含量C,及其与目标晶体含量C0的偏差σ,其特征在于:在步骤3中计算出在粘结剂的初始宽度lc0下所生成模型的晶体含量C,其中,晶体含量C定义为

C=A/S

其中A为晶粒面积和,S为模型总面积。

定义初始晶体含量C与目标晶体含量C0的偏差σ为

式中,若偏差值小于0.01且大于-0.01,进入步骤4;若偏差值大于等于0.01,增大lc0,返回步骤2继续计算;若偏差值大于等于-0.01,减小lc0,返回步骤2继续计算。

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