[发明专利]显示装置及设置其的方法

权利要求书

1.一种显示装置，所述显示装置包括：

基底，包括：

显示区域，其中设置有晶体管；以及

非显示区域，与所述显示区域相邻；并且

所述非显示区域中设置有：

坝结构，从所述基底突出；以及

阻挡图案，在所述晶体管与所述坝结构之间从所述基底突出，并且具有底切形状，

其中，具有所述底切形状的所述阻挡图案包括：

蚀刻金属层，具有宽度；以及

第一上金属层，在所述蚀刻金属层上，并且具有比所述蚀刻金属层的所述宽度大的宽度。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述晶体管包括：

有源图案；以及

连接电极，在所述有源图案上，并且接触所述有源图案，并且

所述非显示区域中的所述阻挡图案与所述显示区域中的所述连接电极在同一层中。

3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述蚀刻金属层和所述第一上金属层包括金属。

4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述蚀刻金属层包括铜。

5.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述第一上金属层包括多晶氧化铟锡。

6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述坝结构包括：

下坝结构，包括第一有机材料；以及

上坝结构，比所述下坝结构远离所述基底，并且包括第二有机材料。

7.根据权利要求6所述的显示装置，所述显示装置还包括：

第一有机结构，在所述第一上金属层上，并且与所述下坝结构的所述第一有机材料在同一层中；以及

第二有机结构，在所述第一有机结构上，并且与所述上坝结构的所述第二有机材料在同一层中。

8.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括：

下阻挡图案，在所述阻挡图案与所述基底之间，并且

所述下阻挡图案包括：

第一下金属层，具有宽度；以及

下蚀刻金属层，在所述第一下金属层上，并且具有比所述第一上金属层的所述宽度小的宽度。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，

所述晶体管包括：

有源图案；

栅电极，在所述有源图案上；以及

连接电极，在所述栅电极上，并且接触所述有源图案，

所述下阻挡图案与所述栅电极在同一层中，并且

所述阻挡图案与所述连接电极在同一层中。

10.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述阻挡图案的所述蚀刻金属层和所述下阻挡图案的所述下蚀刻金属层均包括铜。

11.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述阻挡图案还包括在所述第一上金属层与所述蚀刻金属层之间的第二上金属层。

12.根据权利要求11所述的显示装置，其中，所述第二上金属层包括钛。

13.根据权利要求1所述的显示装置，其中，在所述非显示区域内，所述阻挡图案设置为多个，包括：

第一阻挡图案；以及

第二阻挡图案，在所述第一阻挡图案与所述坝结构之间。