[发明专利]一种瞬态电子用快速自损模块

说明书

本发明一种瞬态电子用快速自损模块，属于瞬态电子技术领域；模块内设置有储水腔、电解水腔、粉末腔、腐蚀液出口、电极和电源；所述储水腔用于容纳水溶液，电解水腔用于容纳电解水，两个腔体之间设置有气体通道；所述粉末腔用于容纳酸、碱粉末，与水溶液混合能够形成腐蚀性溶液；粉末腔与储水腔之间设置有隔绝膜，所述隔绝膜能够由气体撑破；所述腐蚀液出口连通粉末腔，朝向芯片表面；所述电极与电解水腔连通；由电源控制电极通电后，电解水产生氢气和氧气，气体通过电解水腔与储水腔之间的气体通道进入储水腔，储水腔室内气体压强增大将隔绝膜挤破，水溶液流入粉末腔并溶解酸、碱粉末形成腐蚀性溶液，由腐蚀液出口流至芯片表面，实现腐蚀销毁。

技术领域

本发明属于瞬态电子技术领域，具体涉及一种瞬态电子用快速自损模块。

背景技术

瞬态电子，一种能解决数码产品环保问题的技术，应用该技术的产品在报废时启动相关装置可以自然分解，甚至能被人体吸收。该技术已被延伸到医疗领域，用于高温消毒伤口，避免细菌感染。

目前绝大部分瞬态器件的降解机理为整体降解，这一降解过程往往使器件没有完全降解前就失去功能，且目前研究的瞬态器件机理难以与金属氧化物半导体(CMOS)芯片及其加工工艺相兼容，难以满足大量使用CMOS芯片的信息安全、特种情报等领域的瞬态自损毁需求，为此，我们设计了一种瞬态电子用快速自损模块。

发明内容

要解决的技术问题：

为了避免现有技术的不足之处，本发明提供一种瞬态电子用快速自损模块，通过电极、电解水腔、储水腔和隔绝膜之间的配合,在电极的作用下,所产生的气体撑破隔绝膜，腐蚀性液体对硅片腐蚀。

本发明的技术方案是：一种瞬态电子用快速自损模块，模块内设置有储水腔、电解水腔、粉末腔、腐蚀液出口、电极和电源；

所述储水腔用于容纳水溶液，电解水腔用于容纳电解水，两个腔体之间设置有气体通道；

所述粉末腔用于容纳酸、碱粉末，与水溶液混合能够形成腐蚀性溶液；粉末腔与储水腔之间设置有隔绝膜，所述隔绝膜能够由气体撑破；

所述腐蚀液出口连通粉末腔，朝向芯片表面；

所述电极与电解水腔连通；由电源控制电极通电后，电解水产生氢气和氧气，气体通过电解水腔与储水腔之间的气体通道进入储水腔，储水腔室内气体压强增大将隔绝膜挤破，水溶液流入粉末腔并溶解酸、碱粉末形成腐蚀性溶液，由腐蚀液出口流至芯片表面，实现腐蚀销毁。

本发明的进一步技术方案是：所述模块包括从上到下依次排布的上层板、中层板和下层板；

所述上层板内部开设有储水腔和气体通道；所述储水腔底部开口通过隔绝膜封闭；所述气体通道的入口是开于上层板下表面的气孔，其出口与储水腔连通；

所述中层板内部开设有电解水腔、过渡腔、粉末腔和腐蚀液出口；所述电解水腔与上层板的气孔连通；所述过渡腔与储水腔位置相对，并由隔绝膜分隔为独立的腔体；所述粉末腔的入口通过凹槽与过渡腔连通，其出口通过通槽于腐蚀液出口连通；

所述下层板设有电极和电源，电极与电解水腔位置相对；所述电源通过电线与电极连接。

本发明的进一步技术方案是：所述储水腔、电解水腔、过渡腔、粉末腔、腐蚀液出口、电极的数量均为三个，分别为等间距设置，构成三组腐蚀销毁系统。

本发明的进一步技术方案是：所述储水腔位于上层板的中部；所述气孔位于上层板的左侧，与位于中层板左侧的电解水腔相连通。

本发明的进一步技术方案是：所述过渡腔设置于中层板的中部，与粉末腔相邻。

本发明的进一步技术方案是：所述粉末腔呈四边形结构，位于中层板的内部，且位于过渡腔和腐蚀液出口之间。