[发明专利]一种耐高温钕铁硼磁体的制备方法及耐高温钕铁硼磁体

权利要求书

1.一种耐高温钕铁硼磁体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将扩散源放置于烧结钕铁硼磁体易面上的易失磁区域，得到待扩散磁体；

将待扩散磁体进行热处理，使扩散源扩散至磁体内部，得到耐高温钕铁硼磁体。

2.根据权利要求1所述的耐高温钕铁硼磁体的制备方法，其特征在于，还包括以下步骤：将烧结钕铁硼磁体毛坯加工至使用尺寸，并进行表面清理，得到烧结钕铁硼磁体，其中，烧结钕铁硼磁体C轴方向的厚度为2～8mm。

3.根据权利要求1所述的耐高温钕铁硼磁体的制备方法，其特征在于，所述扩散源的质量为钕铁硼磁体的质量的0.05％～0.6％。

4.根据权利要求1所述的耐高温钕铁硼磁体的制备方法，其特征在于，所述扩散源为单一重稀土、重稀土合金、重稀土与轻稀土混合物或者重稀土合金与轻稀土合金混合物中的至少一种，其中，所述重稀土中含Dy、Tb至少一种。

5.根据权利要求4所述的耐高温钕铁硼磁体的制备方法，其特征在于，所述重稀土占扩散源的比例为50％～100％。

6.根据权利要求1所述的耐高温钕铁硼磁体的制备方法，其特征在于，不同使用温度下钕铁硼磁体的易失磁区域占整个易面的比例不同。

7.根据权利要求6所述的耐高温钕铁硼磁体的制备方法，其特征在于，在100℃使用温度下，易失磁区域的占比为5％～50％；在120℃使用温度下，易失磁区域的占比为20％～60％；在150℃使用温度下，易失磁区域的占比为40％～80％；在180℃使用温度下，易失磁区域的占比为50％～95％。

8.根据权利要求1所述的耐高温钕铁硼磁体的制备方法，其特征在于，所述放置所采用的方法为物理气相沉积、化学气相沉积、普通涂覆、喷涂、电镀、电泳沉积和印刷方法中的至少一种。

9.根据权利要求1所述的耐高温钕铁硼磁体的制备方法，其特征在于，所述热处理的过程具体为：在真空环境下进行一级热处理和二级热处理，其中，真空度为8×10^-2～8×10^-3Pa，一级热处理温度为850℃～950℃，保温时间为5h～25h，二级热处理温度为480℃～530℃，保温时间为2h～10h。

10.一种采用如权利要求1-9任一项所述的耐高温钕铁硼磁体的制备方法制备而成的耐高温钕铁硼磁体。