[发明专利]用于光电组件的扩散限制性的电活性阻挡层在审

专利信息
申请号: 202210960794.0 申请日: 2017-09-20
公开(公告)号: CN115312675A 公开(公告)日: 2022-11-08
发明(设计)人: 马尔钦·拉塔伊恰克;帕特里克·巴尔科夫斯基 申请(专利权)人: 伊努鲁有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 曾贤伟
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 光电 组件 扩散 限制性 活性 阻挡
【权利要求书】:

1.一种光电组件(1),其具有阴极(25)和阳极(27)以及阴极(25)与阳极(27)之间的层系统,该层系统包括:

-与所述阴极相邻的至少一个电子注入层(29)或电子提取层,

-至少一个电子传输层(33),

-至少一个光活性层,

-至少一个空穴传输层(35),

-与所述阳极相邻的至少一个空穴注入层(31)或空穴提取层,

其特征在于,

所述至少一个电子注入层(29)或电子提取层和所述至少一个空穴注入层(31)或空穴提取层对水和/或氧具有扩散限制性,并且

所述至少一个电子传输层(33)和所述至少一个空穴传输层(35)相当于对水和/或氧的扩散阻挡层。

2.根据前述权利要求所述的光电组件(1),

其特征在于,

阴极(25)、所述至少一个电子注入层(29)或电子提取层和所述至少一个电子传输层(33)的层组合具有小于0.1g/(m2*d)的水蒸气透过率(WVTR)和小于0.1cm3/(m2*d)的氧气透过率(OTR),和/或

阳极(27)、所述至少一个空穴注入层(31)或空穴提取层和所述至少一个电子传输层(35)的层组合具有小于0.1g/(m2*d)的水蒸气透过率(WVTR)和小于0.1cm3/(m2*d)的氧气透过率(OTR)。

3.根据前述任一项权利要求所述的光电组件(1),

其特征在于,

所述至少一个电子传输层(33)和所述至少一个空穴传输层(35)具有小于1cm3/(m2*d)的氧气透过率(OTR)和小于0.1g/(m2*d)的水蒸气透过率(WVTR)。

4.根据前述任一项权利要求所述的光电组件(1),

其特征在于,

所述至少一个电子传输层(33)具有在10-6cm2/(V*s)和100cm2/(V*s)之间的电子迁移率,并且优选具有在3~4eV之间的LUMO,并且

所述至少一个空穴传输层(35)具有在10-6cm2/(V*s)和100cm2/(V*s)之间的空穴迁移率,并且优选具有在5和7eV之间的HOMO。

5.根据前述任一项权利要求所述的光电组件(1),

其特征在于,

所述至少一个电子传输层(33)具有掺杂的金属氧化物,优选具有掺杂的氧化锌,其中所述掺杂优选用铝、碱金属、碱土金属、茂金属和/或有机n-掺杂剂来进行,并且所述电子传输层(33)特别优选具有氧化铝锌。

6.根据前述任一项权利要求所述的光电组件(1),

其特征在于,

所述至少一个空穴传输层(35)具有掺杂的金属硫氰酸盐和/或掺杂的金属氧化物,掺杂的金属硫氰酸盐优选为掺杂的硫氰酸铜,掺杂的金属氧化物优选为掺杂的氧化锌,

优选掺杂金属硫氰酸盐,金属硫氰酸盐优选从包括硫氰酸钠、硫氰酸钾、硫氰酸银、硫氰酸钨、硫氰酸钒、硫氰酸钼、硫氰酸铜和/或其他过渡金属硫氰酸盐的组中选择,和/或

优选掺杂金属氧化物,金属氧化物优选从包括氧化钨、氧化钒、氧化镍、氧化铜、氧化钼和/或其他过渡金属氧化物的组中选择,和/或

优选掺杂卤素,特别优选氟。

7.根据前述任一项权利要求所述的光电组件,

其特征在于,

所述至少一个电子传输层(33)的总的层厚度为10-50nm,优选为25-30nm,并且所述至少一个空穴传输层(35)的总的层厚度为10-40nm,优选为10-30nm,特别优选为15-25nm。

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