[发明专利]用于光电组件的扩散限制性的电活性阻挡层在审
| 申请号: | 202210960794.0 | 申请日: | 2017-09-20 | 
| 公开(公告)号: | CN115312675A | 公开(公告)日: | 2022-11-08 | 
| 发明(设计)人: | 马尔钦·拉塔伊恰克;帕特里克·巴尔科夫斯基 | 申请(专利权)人: | 伊努鲁有限公司 | 
| 主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56 | 
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 曾贤伟 | 
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 光电 组件 扩散 限制性 活性 阻挡 | ||
1.一种光电组件(1),其具有阴极(25)和阳极(27)以及阴极(25)与阳极(27)之间的层系统,该层系统包括:
-与所述阴极相邻的至少一个电子注入层(29)或电子提取层,
-至少一个电子传输层(33),
-至少一个光活性层,
-至少一个空穴传输层(35),
-与所述阳极相邻的至少一个空穴注入层(31)或空穴提取层,
其特征在于,
所述至少一个电子注入层(29)或电子提取层和所述至少一个空穴注入层(31)或空穴提取层对水和/或氧具有扩散限制性,并且
所述至少一个电子传输层(33)和所述至少一个空穴传输层(35)相当于对水和/或氧的扩散阻挡层。
2.根据前述权利要求所述的光电组件(1),
其特征在于,
阴极(25)、所述至少一个电子注入层(29)或电子提取层和所述至少一个电子传输层(33)的层组合具有小于0.1g/(m2*d)的水蒸气透过率(WVTR)和小于0.1cm3/(m2*d)的氧气透过率(OTR),和/或
阳极(27)、所述至少一个空穴注入层(31)或空穴提取层和所述至少一个电子传输层(35)的层组合具有小于0.1g/(m2*d)的水蒸气透过率(WVTR)和小于0.1cm3/(m2*d)的氧气透过率(OTR)。
3.根据前述任一项权利要求所述的光电组件(1),
其特征在于,
所述至少一个电子传输层(33)和所述至少一个空穴传输层(35)具有小于1cm3/(m2*d)的氧气透过率(OTR)和小于0.1g/(m2*d)的水蒸气透过率(WVTR)。
4.根据前述任一项权利要求所述的光电组件(1),
其特征在于,
所述至少一个电子传输层(33)具有在10-6cm2/(V*s)和100cm2/(V*s)之间的电子迁移率,并且优选具有在3~4eV之间的LUMO,并且
所述至少一个空穴传输层(35)具有在10-6cm2/(V*s)和100cm2/(V*s)之间的空穴迁移率,并且优选具有在5和7eV之间的HOMO。
5.根据前述任一项权利要求所述的光电组件(1),
其特征在于,
所述至少一个电子传输层(33)具有掺杂的金属氧化物,优选具有掺杂的氧化锌,其中所述掺杂优选用铝、碱金属、碱土金属、茂金属和/或有机n-掺杂剂来进行,并且所述电子传输层(33)特别优选具有氧化铝锌。
6.根据前述任一项权利要求所述的光电组件(1),
其特征在于,
所述至少一个空穴传输层(35)具有掺杂的金属硫氰酸盐和/或掺杂的金属氧化物,掺杂的金属硫氰酸盐优选为掺杂的硫氰酸铜,掺杂的金属氧化物优选为掺杂的氧化锌,
优选掺杂金属硫氰酸盐,金属硫氰酸盐优选从包括硫氰酸钠、硫氰酸钾、硫氰酸银、硫氰酸钨、硫氰酸钒、硫氰酸钼、硫氰酸铜和/或其他过渡金属硫氰酸盐的组中选择,和/或
优选掺杂金属氧化物,金属氧化物优选从包括氧化钨、氧化钒、氧化镍、氧化铜、氧化钼和/或其他过渡金属氧化物的组中选择,和/或
优选掺杂卤素,特别优选氟。
7.根据前述任一项权利要求所述的光电组件,
其特征在于,
所述至少一个电子传输层(33)的总的层厚度为10-50nm,优选为25-30nm,并且所述至少一个空穴传输层(35)的总的层厚度为10-40nm,优选为10-30nm,特别优选为15-25nm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择





