[发明专利]贴图UV信息的处理方法及装置、存储介质和电子设备在审
| 申请号: | 202210952854.4 | 申请日: | 2022-08-09 |
| 公开(公告)号: | CN115311402A | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
| 发明(设计)人: | 劳维旻;陈家豪 | 申请(专利权)人: | 网易(杭州)网络有限公司 |
| 主分类号: | G06T15/04 | 分类号: | G06T15/04;A63F13/56 |
| 代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉 |
| 地址: | 310052 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 贴图 uv 信息 处理 方法 装置 存储 介质 电子设备 | ||
本公开涉及计算机技术领域,涉及贴图UV信息的处理方法及装置、存储介质。该方法包括:根据多细节层次LOD模型中目标子模型的模型描述信息,获取目标子模型中的顶点信息和顶点间的连接关系信息;根据顶点信息和连接关系信息,确定目标子模型对应的多个UV壳,UV壳为相互连接的UV顶点形成的网格结构;将多个UV壳导入同一二维UV空间内,以生成目标子模型的UV信息,同一二维UV空间内的所述UV壳不存在面重叠;基于第一目标子模型的第一UV信息,对至少一个第二目标子模型的第二UV信息进行矫正,第一目标子模型的模型精度高于第二目标子模型的模型精度。本公开实现LOD模型的贴图UV信息的自动生成和矫正。
技术领域
本公开涉及计算机技术领域,更具体地,涉及一种贴图UV信息的处理方法、贴图UV信息的处理装置、计算机可读存储介质和电子设备。
背景技术
LOD技术(Level of Detail,细节层次模型技术)是根据视点距离对象的位置改变,调用不同复杂度的模型,可以在较远时调用低复杂度模型,在较近时调用高复杂度模型,保留近处的模型细节的同时,节约渲染开销,实现性能和效果的双重优化。
应用LOD技术组织的模型称作LOD模型,LOD模型是由多个子模型组成,相关技术中,若LOD模型的贴图UV信息存在不匹配的情况,例如不同LOD等级的子模型对应的表面,在UV二维平面未处于同样的位置,则导致在视点逐渐接近(或远离)的过程中,模型上出现光照突变。但是,通过建模师手动调整的方式延缓生产进度,降低项目迭代效率。
需要说明的是,在上述背景技术部分发明的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本公开的目的在于提供一种贴图UV信息的处理方法及装置、计算机存储介质和电子设备,以实现LOD模型的贴图UV信息的自动生成和矫正,提高生产效率。
本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然,或部分地通过本公开的实践而习得。
根据本公开的一个方面,提供一种贴图UV信息的处理方法,包括:根据多细节层次LOD模型中目标子模型的模型描述信息,获取所述目标子模型中的顶点信息和顶点间的连接关系信息;根据所述顶点信息和连接关系信息,确定所述目标子模型对应的多个UV壳,所述UV壳为相互连接的UV顶点形成的网格结构;将所述多个UV壳导入同一二维UV空间内,以生成所述目标子模型的UV信息,其中,所述同一二维UV空间内的所述UV壳不存在面重叠;基于第一目标子模型的第一UV信息,对至少一个第二目标子模型的第二UV信息进行矫正,所述第一目标子模型的模型精度高于所述第二目标子模型的模型精度。
在本公开的一种示例性实施例中,所述目标子模型包括多个相互连接的多边形结构;所述根据所述顶点信息和连接关系信息,确定所述目标子模型对应的多个UV壳,包括:遍历各所述多边形结构的顶点信息和连接关系信息,得到遍历结果;根据遍历结果,将相互连接的UV顶点形成一个UV壳。
在本公开的一种示例性实施例中,所述将所述多个UV壳导入同一二维UV空间内,以生成所述目标子模型的UV信息,包括:根据各所述UV壳的顶点信息,分别构建各所述UV壳的第一包围盒;基于所述第一包围盒,依次将各所述UV壳导入至二维UV空间下的UV坐标系中,得到第一整体UV壳,所述第一整体UV壳中的所述UV壳不存在面重叠;根据所述第一整体UV壳的顶点信息,构建所述第一整体UV壳的第二包围盒;基于所述第二包围盒,对所述第一整体UV壳内的UV壳进行等比缩放处理,根据处理后的UV壳生成所述UV信息。
在本公开的一种示例性实施例中,所述基于所述第一包围盒,依次将各所述UV壳导入至二维UV空间下的UV坐标系中,得到第一整体UV壳,包括:将各所述UV壳按照所对应的第一包围盒的面积由大至小的顺序,依次导入至所述UV坐标系中。
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