[发明专利]一种压力参考点的隐式处理方法、设备及介质有效

专利信息
申请号: 202210930132.9 申请日: 2022-08-04
公开(公告)号: CN114996634B 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 赵凡;齐琛;张健;王显焯;武文军;马洪林;王应宇 申请(专利权)人: 中国空气动力研究与发展中心计算空气动力研究所
主分类号: G06F17/11 分类号: G06F17/11
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 周浩杰
地址: 621052 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 压力 参考 处理 方法 设备 介质
【说明书】:

发明公开了一种压力参考点的隐式处理方法、设备及介质,属于计算流体力学领域,包括步骤:在流场计算中当需要给定压力参考点时,将压力参考点放在压力修正方程中,实现隐式地给出压力参考点;利用隐式地给出压力参考点的方式计算最终的流场输出结果。本发明避免了相对压力场的计算,从而减少了计算量,提高了计算效率,简化了计算流程。

技术领域

本发明涉及计算流体力学领域,更为具体的,涉及一种压力参考点的隐式处理方法、设备及介质。

背景技术

SIMPLE类算法求解低速流动问题需要得到相对压力场,因此需要给定压力参考点,而压力参考点的给定有不同的实现方式。

一般来说,普遍采用的方法是显式地给出压力参考点的坐标位置,然后通过网格搜寻,找到与该坐标位置最近的网格点,然后以该网格点为压力参考点,计算压力修正方程后得到的压力场以该参考点为基准计算出相对压力场。

可见,由于压力参考点显式给定,因此计算压力修正方程得到压力场之后,需要以该参考点为基准重新计算新的相对压力场,计算量较大,计算效率低下,计算流程繁琐。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种压力参考点的隐式处理方法、设备及介质,避免了相对压力场的计算,从而减少了计算量,提高了计算效率,简化了计算流程等。

本发明的目的是通过以下方案实现的:

一种压力参考点的隐式处理方法,包括步骤:

在流场计算中当需要给定压力参考点时,将压力参考点放在压力修正方程中,实现隐式地给出压力参考点;利用隐式地给出压力参考点的方式计算最终的流场输出结果。

进一步地,所述利用隐式地给出压力参考点的方式计算最终的流场输出结果,包括采用如下压力修正方程计算最终的流场输出结果的子步骤:

其中,Ap为压力参考点处的系数,xp为压力参考点处的压力修正值且未知,Anb为压力参考点相邻单元的系数,xnb为压力参考点相邻单元处的压力修正值且未知,b为质量不平衡带来的源项,xref为压力参考点处给定的压力参考值。

进一步地,所述在流场计算中包括在采用SIMPLE算法或SIMPLE类算法的流场计算中。

进一步地,所述SIMPLE类算法包括SIMPLEC、SIMPLER、SIMPLEX、PISO算法中的任一种。

进一步地,包括子步骤:

S1,创建出一套流场计算的网格;

S2,将网格导入到求解器中;

S3,对网格进行前处理;

S4,在流场计算中利用隐式地给出压力参考点的方式,计算最终的流场输出结果。

进一步地,在步骤S4中,在流场计算中采用SIMPLE算法时,包括子步骤:

S41,给定初始的速度场U0、压力场P0

S42,计算动量离散方程,得到更新的速度场U*

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