[发明专利]一种祛痘消印组合物及其应用在审
申请号: | 202210906071.2 | 申请日: | 2022-07-29 |
公开(公告)号: | CN115025024A | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | 高德爱;姜森南 | 申请(专利权)人: | 维怡美生物科技(广州)有限公司;广州首漾医药生物科技有限公司;广州希黎莎生物科技有限公司 |
主分类号: | A61K8/9789 | 分类号: | A61K8/9789;A61K8/9728;A61K8/34;A61P17/10;A61P29/00;A61Q17/00;A61Q19/00;A61Q19/02;A61Q19/08 |
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地址: | 510405 广东省广州市白云区均*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 祛痘消印 组合 及其 应用 | ||
1.一种祛痘消印组合物,其特征在于:包括以下质量百分比的原料:
倒捻子果皮提取物0.22-0.42wt%;
丹参根提取物0.04-0.08wt%;
芍药根提取物1.02-1.12wt%;
忍冬花提取物0.04-0.08wt%;
黄檗提取物0.47-0.67wt%;
百里香提取物0.47-0.67wt%;
苦参根提取物0.33-0.53wt%;
胀果甘草根提取物0.33-0.53wt%;
黄芩根提取物0.47-0.67wt%;
积雪草提取物2.66-3.06wt%;
银耳提取物4.19-4.39wt%;
皮肤调理剂3.04-3.24wt%;
保湿剂4.29-6.29wt%;
溶剂添加至100wt%。
2.根据权利要求1所述的一种祛痘消印组合物,其特征在于:所述保湿剂中包括脱水木糖醇和木糖醇中的一种或两种。
3.根据权利要求2所述的一种祛痘消印组合物,其特征在于:所述保湿剂由脱水木糖醇79-82wt%、木糖醇13.2-13.7wt%和1,2-己二醇余量混合制得。
4.根据权利要求1所述的一种祛痘消印组合物,其特征在于:所述皮肤调理剂包括羟基乙酸、甘油辛酸酯和乙基己基甘油,所述羟基乙酸、甘油辛酸酯和乙基己基甘油的质量比为(20-22):1:1。
5.根据权利要求1所述的一种祛痘消印组合物,其特征在于:所述溶剂包括水、丁二醇和丙二醇。
6.根据权利要求1、2、4、5任一所述的一种祛痘消印组合物,其特征在于:所述祛痘消印组合物的制备方法为:
S1,把溶剂升温至40-50℃,搅拌均匀;
S2,边搅拌边加入倒捻子果皮提取物、丹参根提取物、芍药根提取物、忍冬花提取物、黄檗提取物、百里香提取物、苦参根提取物、胀果甘草根提取物、黄芩根提取物、积雪草提取物、银耳提取物,搅拌溶解均匀;
S3,再加入皮肤调理剂和保湿剂,混合均匀,过滤出料,得到祛痘消印组合物。
7.一种如权利要求1-6任一所述的祛痘消印组合物的应用,其特征在于:将所述祛痘消印组合物添加至精华、面霜中。
8.根据权利要求7所述的一种祛痘消印组合物的应用,其特征在于:所述祛痘消印组合物在精华、面霜中的添加量占精华、面霜总体质量的6%-8%。
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