[发明专利]芯片制造方法及设备在审
| 申请号: | 202210871350.X | 申请日: | 2022-07-22 | 
| 公开(公告)号: | CN115116880A | 公开(公告)日: | 2022-09-27 | 
| 发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 上海壁仞智能科技有限公司 | 
| 主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/78 | 
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 | 
| 地址: | 201100 上海市闵行区*** | 国省代码: | 上海;31 | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 芯片 制造 方法 设备 | ||
1.一种芯片制造方法,包括:
在晶圆上制备多个预定芯片集合,其中,每个预定芯片集合包括多个单芯片;
对所述多个预定芯片集合中的每个单芯片进行合格性测试;
基于所述测试的结果对所述晶圆进行切割,其中
响应于所述多个预定芯片集合中的第一预定芯片集合内的每个单芯片都是合格的,将所述第一预定芯片集合作为整体切割,或者
响应于所述多个预定芯片集合中的第二预定芯片集合内的部分单芯片是合格的,将所述第二预定芯片集合中不合格的单芯片和合格的单芯片切割分离。
2.根据权利要求1所述的方法,在所述基于所述测试结果对所述晶圆进行切割之后,还包括:
将切割得到的中间产品进行封装。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述对切割得到的中间产品进行封装,包括:
将所述第一预定芯片集合作为整体切割所得到的第一中间产品整体进行封装;
将所述第二预定芯片集合中不合格的单芯片和合格的单芯片切割分离所得到的包括至少一个所述合格的单芯片的第二中间产品进行封装。
4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述包括至少一个所述合格的单芯片的第二中间产品包括至少两个彼此互连的单芯片,
所述将所述第二预定芯片集合中不合格的单芯片和合格的单芯片切割分离所得到的包括至少一个所述合格的单芯片的第二中间产品进行封装,包括:
将所述至少两个彼此互连的单芯片整体进行封装。
5.根据权利要求1-4任一所述的方法,其中,所述在晶圆上制备所述多个预定芯片集合,包括:
位于所述多个预定芯片集合中的同一预定芯片集合的多个单芯片至少由同一芯片制备光罩形成。
6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述在晶圆上制备所述多个预定芯片集合,包括:
在所述晶圆中制备导电结构电连接所述同一预定芯片集合内相邻的两个单芯片。
7.根据权利要求6所述的方法,其中,所述在晶圆上制备所述多个预定芯片集合,还包括:
在所述同一预定芯片集合内相邻的两个单芯片之间形成切割道区域,
其中,在所述晶圆中制备所述导电结构电连接所述同一预定芯片集合内相邻的两个单芯片,包括:
所述相邻的两个单芯片通过所述导电结构经所述切割道区域电连接。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述在晶圆上制备所述多个预定芯片集合,还包括:
在所述相邻的两个单芯片之间的所述切割道区域的两端分别设置密封环。
9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述密封环与所述两个单芯片的与所述切割道区域延伸方向相垂直的芯片边缘对齐。
10.根据权利要求5所述的方法,在对所述多个预定芯片集合中的每个单芯片进行测试之后,还包括:
根据所述测试的结果,在所述晶圆上形成至少一个重分布层以电连接所述同一预定芯片集合内相邻的两个合格的单芯片。
11.根据权利要求10所述的方法,其中,
对于所述同一预定芯片集合为所述第一预定芯片集合的情形,所述重分布层包括用于电连接所述第一预定芯片集合内全部合格的单芯片的第一导电结构;或者
对于所述同一预定芯片集合为所述第二预定芯片集合的情形,
若所述第二预定芯片集合包括在同一行或同一列的相邻的两个合格的单芯片,所述重分布层包括用于电连接所述第二预定芯片集合内的所述在同一行或同一列的相邻的两个合格的单芯片的第二导电结构;或者
若所述第二预定芯片集合不包括在同一行或同一列的相邻的两个合格的单芯片,所述重分布层不形成在所述第二预定芯片集合上,或所述重分布层形成在所述第二预定芯片集合上但不电连接相邻的两个单芯片。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海壁仞智能科技有限公司,未经上海壁仞智能科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210871350.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:竹片高频脉冲式开片机
- 下一篇:一种水循环生态公厕及其施工工艺
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





