[发明专利]基于氢气处理的氧化镓二极管开启电压降低方法在审
申请号: | 202210864506.1 | 申请日: | 2022-07-21 |
公开(公告)号: | CN115148605A | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
发明(设计)人: | 郑雪峰;岳少忠;张翔宇;洪悦华;张方;苑子健;马晓华;郝跃 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L21/34 | 分类号: | H01L21/34;H01L29/872;H01L29/24 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人: | 王品华 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 氢气 处理 氧化 二极管 开启 电压 降低 方法 | ||
1.一种基于氢气处理的氧化镓二极管开启电压降低方法,其特征在于,包括如下步骤:
根据氢气易发生爆炸的浓度为4.0%~75.6%以及氢原子在氧化镓材料中的扩散速度,选取氢气浓度为0.1%~4%和75.6%~100%;
选取多只Ga2O3二极管器件按照与存储罐内底部相同的圆周单层平铺摆放后固定在存储罐内的底部,并将存储罐密封,再通过存储罐内置的单向充气口往存储罐内充入所选的氢气,直到存储罐内的压强达到0.1~3MPa;
选取恒温箱设备,根据氢气的燃点温度为400℃,设置恒温箱设备温度为20~350℃;
检查存储罐的密封情况无误后,将充有氢气的存储罐放入恒温箱中,检查恒温箱的参数设置无误后,打开电源,直到静置储存时间达到1~100天后关闭电源,取出器件,实现对其开启电压的降低。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:选取的Ga2O3二极管的条件必须同时满足如下两个条件:
其阳极金属必须包含Pt、Ni、Pd、Mo、Rh过渡金属中的一种或多种;
其阳极表面不被任何钝化层覆盖。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:存储罐内所充氢气的压强选择,是根据密闭存储罐的耐压值,即存储罐的耐压范围为0.1~3MPa,以此确定存储罐内所充氢气的压强为0.1~3MPa。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210864506.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造