[发明专利]一种亮光精雕哑光深刻的立体纹理陶瓷砖的制备方法

权利要求书

1.一种亮光精雕哑光深刻的立体纹理陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

准备陶瓷砖坯体，该陶瓷砖坯体表面具有面釉层；

采用两组喷头，一组喷头先向陶瓷砖坯体的面釉层表面喷射亮光精雕墨水形成亮光纹理，然后另一组喷头再喷射哑光深刻墨水形成哑光纹理，哑光深刻墨水和亮光精雕墨水分别喷射在陶瓷砖坯体表面的不同区域，从而在陶瓷砖坯体表面形成亮光纹理和哑光纹理同时存在的形态；

再打印抗菌性墨水，形成抗菌层；

然后经过干燥、烧结，得到陶瓷砖成品。

2.根据权利要求1所述的亮光精雕哑光深刻的立体纹理陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述精雕黑水由以下按照质量份数之和100计的组分组成：

高温熔块3-25份，熔融石英5-13份，煅烧氧化锌1-4份，硅酸锆5-20份，水铝石1-5份，氧化秘1-3份，分散剂2-6份，消泡剂1-5份，溶剂35-65份；

高温熔块由以下按照质量份数之和100计的组分组成：

35-65份SiO₂、15-30份Al₂O₃、5-10份K₂O、5-10份Na₂O、5-10份ZnO、5-10份CaO。

3.根据权利要求2所述的亮光精雕哑光深刻的立体纹理陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述哑光深刻墨水由以下按照质量份数之和100计的组分组成：

高温熔块3-20份，熔融石英5-13份，硅灰石1-5份，硅酸锆5-20份，水铝石1-5份，氧化秘1-3份，分散剂2-6份，消泡剂1-5份，溶剂35-65份。

4.根据权利要求3所述的亮光精雕哑光深刻的立体纹理陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述分散剂为聚氨酯型分散剂、聚合氢化蓖麻酸中的一种或两种的组合物。

5.根据权利要求4所述的亮光精雕哑光深刻的立体纹理陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述消泡剂为BYK-055、BYK-028中的一种或两种组合。

6.根据权利要求5所述的亮光精雕哑光深刻的立体纹理陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述溶剂为矿物油、月桂酸异丙酯、油酸甲酯和椰油酸异辛酯中的任一种或任两种以上的组合。

7.根据权利要求6所述的亮光精雕哑光深刻的立体纹理陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述抗菌性墨水由以下按照质量份数之和100计的组分组成：

二氧化钛30～50份，氮化硅15～30份，五氧化二磷10～20份，氧化钾10～15份，氧化锶3～8份，银离子1-5份。

8.根据权利要求8所述的亮光精雕哑光深刻的立体纹理陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述抗菌性墨水根据以下步骤制得：

取钛酸丁酯、正硅酸乙酯溶于异丙醇中，搅拌得抗菌前驱体溶液；

将二氧化钛30～50份，氮化硅15～30份，五氧化二磷10～20份，氧化钾10～15份，氧化锶3～8份，银离子1-5份混合在一起并研磨形成混合粉末；

将混合粉末加入抗菌前驱体溶液中，搅拌均匀，过滤后得到抗菌墨水。

9.根据权利要求9所述的亮光精雕哑光深刻的立体纹理陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述亮光精雕墨水和哑光深刻墨水的喷墨打印量为10～20g/m^2，，抗菌墨水的喷墨打印量为5-10g/m^2，。