[发明专利]清洗装置

权利要求书

1.一种清洗装置(1)，该清洗装置(1)具备：

清洗槽(7)，其具有清洗空间(7A)，该清洗空间(7A)由底壁(7D)、侧壁(7F、7B、7L、7R)及上壁(8)形成并对被清洗物(TW1)进行收容；

第1清洗机构(61)，其具有第1喷嘴(61A、61B、61C)，并在所述清洗空间(7A)内从所述第1喷嘴(61A、61B、61C)喷射清洗水而对所述被清洗物(TW1)进行清洗；

贮存容器(29)，其位于所述清洗空间(7A)的外部，并对用于所述被清洗物(TW1)的处理剂(S1)进行贮存；以及

处理剂供给装置(20)，其在所述清洗空间(7A)的外部与所述贮存容器(29)连接，并且与在所述侧壁(7F、7B、7L、7R)或所述上壁(8)开口的处理剂供给口(26)连通，将贮存于所述贮存容器(29)的所述处理剂(S1)经由所述处理剂供给口(26)而向所述清洗空间(7A)内供给，

其特征在于，

所述清洗装置(1)还具备：具有第2喷嘴(62A)的第2清洗机构(62)，该第2喷嘴(62A)能够朝向所述处理剂供给口(26)喷射所述清洗水，并且能够使喷射的所述清洗水直接到达所述处理剂供给口(26)。

2.根据权利要求1所述的清洗装置(1)，其特征在于，

所述处理剂(S1)是液体，

所述处理剂供给装置(20)一边对所述处理剂(S1)进行加压一边将所述处理剂(S1)经由所述处理剂供给口(26)而向所述清洗空间(7A)内供给。

3.根据权利要求1或2所述的清洗装置(1)，其特征在于，

所述清洗装置(1)还具备旋转体(60)，该旋转体(60)位于比所述清洗空间(7A)内的所述被清洗物(TW1)更靠下方或上方的位置，并且能够绕沿铅垂方向延伸的旋转轴心(X1)而旋转，

所述第1喷嘴(61A、61B、61C)一体地设置于所述旋转体(60)，并且一边与所述旋转体(60)一起旋转一边朝向所述被清洗物(TW1)喷射所述清洗水，

所述第2喷嘴(62A)一体地设置于所述旋转体(60)，并且一边与所述旋转体(60)一起旋转一边在所述旋转体(60)旋转1圈期间的规定范围内朝向所述处理剂供给口(26)喷射所述清洗水。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的清洗装置(1)，其特征在于，

所述清洗装置(1)还具备被清洗物载置部件(70)，该被清洗物载置部件(70)收容于所述清洗空间(7A)内，并供所述被清洗物(TW1)载置，

所述被清洗物载置部件(70)具有：将载置的所述被清洗物(TW1)保持为规定的朝向和/或规定的姿势的多个保持部(71)，

各所述保持部(71)的至少一部分对所述被清洗物(TW1)的排列进行限制，以便使得所述被清洗物(TW1)从自所述第2喷嘴(62A)朝向所述处理剂供给口(26)喷射的所述清洗水与所述处理剂供给口(26)之间脱离。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的清洗装置(1)，其特征在于，

所述清洗装置(1)是对作为所述被清洗物(TW1)的餐具类进行清洗的餐具清洗机(1)。