[发明专利]一种工作台和激光打标设备在审
申请号: | 202210854131.0 | 申请日: | 2022-07-13 |
公开(公告)号: | CN115178887A | 公开(公告)日: | 2022-10-14 |
发明(设计)人: | 樊建江;赵赞良;王武林;史晨燕;韩晓辉;聂大小;王安红;陈宇晖 | 申请(专利权)人: | 宁夏隆基乐叶科技有限公司 |
主分类号: | B23K26/362 | 分类号: | B23K26/362;B23K26/70;B23K101/36 |
代理公司: | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人: | 张子宽 |
地址: | 750021 宁夏回族自治*** | 国省代码: | 宁夏;64 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工作台 激光 设备 | ||
本发明公开一种工作台和激光打标设备,涉及激光加工设备技术领域,以解决激光打标设备的台面上存在杂质时影响加工质量的问题。所述工作台包括支架、翻转机构和承载台,翻转机构设置于支架,承载台包括用于承载工件的承载面,承载台设置于翻转机构上,翻转机构用于可控的驱动承载台翻转,使得承载面在朝上姿态和朝下姿态之间翻转切换,所述激光打标设备包括上述方案所述的工作台。
技术领域
本发明涉及激光加工设备技术领域,尤其涉及一种工作台和激光打标设备。
背景技术
在晶体硅太阳能电池的制造工艺中,SE(选择性发射极)激光掺杂工艺是一种制备高质量太阳能电池的关键性工艺。通常利用激光打标设备实施SE激光掺杂工艺,掺杂时,先将带有PSG(磷硅玻璃层)的硅片放置于激光打标设备的工作台上,然后通过拍照设备获取硅片的表面图像,并根据表面图像确定掺杂区域,最后利用激光脉冲熔融掺杂区域的硅片表层,使PSG层中的磷原子推进至硅片中并快速取代原有的硅原子实现扩散掺杂。
采用上述激光打标设备实施SE激光掺杂工艺时,可以在硅片上形成高质量的掺杂层;但是,激光脉冲掺杂硅片表层的过程中,硅片表层会在激光脉冲的作用下产生碎片等杂质,杂质留在工作台上后,下一块硅片掺杂时会放置于工作台的杂质上,导致硅片部分位置抬升,在拍照获取硅片的表面图像时,硅片上抬升部分的图形会发生变形,导致掺杂区域的确定出现偏差,同时激光掺杂时,掺杂位置也会出现偏差,从而导致激光掺杂形成的掺杂层质量较差,进而导致形成的太阳能电池质量较差。
发明内容
本发明的目的在于提供一种工作台和激光打标设备,以去除工作台上的杂质。
为了实现上述目的,第一方面,本发明提供一种工作台,包括:
支架;
翻转机构,翻转机构设置于支架;
承载台,包括用于承载工件的承载面,承载台设置于翻转机构上,翻转机构用于可控的驱动承载台翻转,使得承载面在朝上姿态和朝下姿态之间翻转切换。
采用上述技术方案的情况下,工作台包括支架、翻转机构和承载台,翻转机构设置于支架,承载台设置于翻转机构,翻转机构用于驱动承载台翻转,使得承载面在朝上姿态和朝下姿态之间翻转切换;采用这种结构,在硅片放置于承载台之前,可以先利用翻转机构控制承载台翻转,使承载面由朝上姿态转换为朝下姿态,此时,承载面上的杂质在惯性和重力的作用下会倾倒出去,使得杂质脱离承载台;在下一块硅片放置于承载台上之前,可以利用翻转机构控制承载台翻转,使承载下一块硅片的承载面由朝上姿态转换为朝下姿态,此时,下一块硅片可以平整地放置在承载面上,在拍照获取硅片的表面图像和激光掺杂时承载面形变较小,减小了偏差,提高激光掺杂的精度,使得激光掺杂形成的掺杂层质量较好,从而提高形成的太阳能电池的质量。另外,承载台上的杂质去除后,可以使下一块硅片能够更加稳定地放置于承载面上。
在一些可能的实现方式中,承载台为环形传送带,翻转机构包括与环形传送带传动连接的驱动组件,驱动组件驱动环形传送带做环绕运动。如此设置,优化承载台的结构,驱动组件可以驱动环形传送带运动实现翻转。
在一些可能的实现方式中,驱动组件包括至少两个转动轴,至少两个转动轴位于环形传送带内侧且将环形传送带张紧,至少两个转动轴转动时带动环形传送带做环绕运动。如此设置,通过两个转动轴带动环形传送带运动,简化驱动组件的结构,使得环形传送带安装更加方便。
在一些可能的实现方式中,承载台为板状结构,翻转机构包括驱动装置和转动杆,驱动装置安装在支架上,转动杆与驱动装置相连,承载台安装在转动杆上,驱动装置驱动转动杆转动,转动杆转动时带动承载台翻转。如此设置,优化承载台的结构,转动杆转动时可以带动承载台运动实现翻转。
在一些可能的实现方式中,还包括吸附装置,吸附装置安装在支架上且位于承载台下方,用于吸紧承载台上的工件。如此设置,能够使工件更加稳定地放置于承载台上。
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