[发明专利]一种高折射率Ge-Ga-Sb-Se-Te硫系玻璃及其制备方法和应用在审
| 申请号: | 202210829613.0 | 申请日: | 2022-07-14 |
| 公开(公告)号: | CN115196875A | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
| 发明(设计)人: | 顾杰荣;沈祥;贾光;夏克伦;仵苗苗 | 申请(专利权)人: | 宁波海洋研究院;宁波大学 |
| 主分类号: | C03C4/10 | 分类号: | C03C4/10;C03C3/32;C03B27/04;C03B25/00;C03B5/16;C03B1/00 |
| 代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 冯小娇 |
| 地址: | 315832 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 折射率 ge ga sb se te 玻璃 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明提供了一种高折射率Ge‑Ga‑Sb‑Se‑Te硫系玻璃及其制备方法和应用,属于特种玻璃技术领域。本发明提供的高折射率Ge‑Ga‑Sb‑Se‑Te硫系玻璃,包括以下成分:Ge:15~20at%;Ga:1~5at%;Sb:5~15at%;Se:25~35at%和Te:30~38at%。本发明通过引入高原子量元素Te,来提升玻璃线性折射率,元素Te有着很高的原子量以及极化率,有利于改善玻璃的光学非线性性能,Te能在玻璃中形成网络结构从而可以增加玻璃的光学质量,从而大幅度提高了硫系玻璃的折射率。实施例的结果显示,硫系玻璃10μm波长的折射率2.95,转变温度为200~220℃。
技术领域
本发明涉及特种玻璃技术领域,尤其涉及一种高折射率Ge-Ga-Sb-Se-Te硫系玻璃及其制备方法和应用。
背景技术
硫系玻璃是一种新型的无机非晶材料和红外光学材料,主要以硫族元素中的S、Se或Te为基础,引入其他电负性较弱的金属(Ga、Ge、Sb等)或非金属(P、As等)元素而形成的非晶态材料,它在两个大气窗口(3~5μm、8~12μm)都具有优异的透过性能,并且具有低的温度折射率系数(约是锗单晶材料的1/10)、可规模化模压镜片制造和组分可调等优势,近年来在军事和民用消色差红外光学中得到了极大的应用。硫系玻璃的折射率与硫系玻璃中离子的极化率和原子量有关,当前市场商用化的红外硫系玻璃材料,其光学折射率主要集中在2.4~2.8,Abbe数在100~150,缺乏拥有更高折射率和Abbe数的可商业化的硫系玻璃牌号,这对红外光学系统的小型化、轻量化是及其不利的。
因此,如何提高硫系玻璃的折射率,成为本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高折射率Ge-Ga-Sb-Se-Te硫系玻璃及其制备方法和应用,本发明提供的高折射率Ge-Ga-Sb-Se-Te硫系玻璃10μm波长的折射率更高,且高折射率Ge-Ga-Sb-Se-Te硫系玻璃的转变温度高。
为了实现上述发明目的,本发明提供以下技术方案:
本发明提供了一种高折射率Ge-Ga-Sb-Se-Te硫系玻璃,包括以下成分:Ge:15~20at%;Ga:1~5at%;Sb:5~15at%;Se:25~35at%和Te:30~38at%。
优选地,所述高折射率Ge-Ga-Sb-Se-Te硫系玻璃包括以下成分:Ge:18at%;Ga:5at%;Sb:12at%;Se:32.5at%和Te:32.5at%。
本发明提供了上述技术方案所述高折射率Ge-Ga-Sb-Se-Te硫系玻璃的制备方法,包括以下步骤:
(1)将Ge源、Ga源、Sb源、Se源和Te源混合后进行提纯,得到提纯混合物;
(2)将所述步骤(1)得到的提纯混合物依次进行熔化、淬火和退火,得到高折射率Ge-Ga-Sb-Se-Te硫系玻璃。
优选地,所述步骤(1)中提纯的方式为真空蒸馏法、除氧剂法和真空蒸馏结合除氧剂法中的任意一种。
优选地,所述步骤(1)中提纯的方式为真空蒸馏结合除氧剂法。
优选地,所述真空蒸馏结合除氧剂法中使用的脱氧剂为单质Mg或单质Al。
优选地,所述步骤(2)中熔化的温度为850~950℃,熔化的时间为30~35h。
优选地,所述步骤(2)中淬火的温度为350~500℃,淬火的方式为风冷淬火。
优选地,所述步骤(2)中退火的温度为180~250℃,退火的冷却速率为2~10℃/h。
本发明提供了上述技术方案所述高折射率Ge-Ga-Sb-Se-Te硫系玻璃或上述技术方案所述制备方法制备得到的高折射率Ge-Ga-Sb-Se-Te硫系玻璃在红外光学中的应用。
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