[发明专利]一种磁场测量方法以及磁场测量系统

权利要求书

1.一种磁场测量方法，其特征在于，包括：

将霍尔片与磁场生成装置固定连接，霍尔片位于磁场生成装置的均匀磁场区内，且使霍尔片与所述均匀磁场区的均匀磁场的方向垂直，且所述磁场生成装置固定在三轴位移台上；

芯片对所述磁场生成装置的施加电流进行调整，以对均匀磁场的大小的进行调整，并通过所述三轴位移台对所述磁场生成装置的位置进行调整，以对所述均匀磁场的方向进行调整，直至所述霍尔片的霍尔电压为零，根据当前均匀磁场，确定磁源在所述霍尔片所在位置的磁场的磁感应强度。

2.根据权利要求1所述的一种磁场测量方法，其特征在于，还包括：

当磁源为贴合在平面板上的磁力矩器时，且当待测位置位于所述磁力矩器的磁芯的轴线上时，芯片通过拍摄装置获取至少含有所述平面板、磁力矩器和霍尔片的图像，并根据所述图像的像素确定所述平面板与所述霍尔片是否平行，得到判断结果，当所述判断结果为是时，确定所述磁力矩器平行贴合在所述平面板上。

3.根据权利要求2所述的一种磁场测量方法，其特征在于，所述根据所述图像的像素确定所述平面板与所述霍尔片是否平行，得到判断结果，包括：

获取并将所述平面板所在位置的任一列像素作为第一对比列像素，获取并将所述霍尔片所在位置的任一列像素作为第二对比列像素，计算所述第一对比列像素与所述第二对比列像素中的同行之间的两个像素之间的间隔像素数量是否均相等，若是，则所述判断结果为是。

4.根据权利要求2所述的一种磁场测量方法，其特征在于，还包括：

当所述判断结果为否时，在所述图像上建立二维坐标系，将所述平面板、所述磁力矩器的磁芯的轴线和霍尔片映射到所述二维坐标系中，计算得到所述平面板的目标调整角度，根据所述目标调整角度对所述平面板进行调整，直至使所述判断结果为是。

5.根据权利要求1至4任一项所述的一种磁场测量方法，其特征在于，所述磁场生成装置为亥姆霍兹线圈或螺线管。

6.一种磁场测量系统，其特征在于，包括芯片、磁场生成装置、三轴位移台和霍尔片，所述芯片用于：芯片对所述磁场生成装置的施加电流进行调整，以对均匀磁场的大小的进行调整，并通过所述三轴位移台对所述磁场生成装置的位置进行调整，以对所述均匀磁场的方向进行调整，直至所述霍尔片的霍尔电压为零，根据当前均匀磁场，确定磁源在所述霍尔片所在位置的磁场的磁感应强度，其中，将霍尔片与磁场生成装置固定连接，霍尔片位于磁场生成装置的均匀磁场区内，且使霍尔片与所述均匀磁场区的均匀磁场的方向垂直，且所述磁场生成装置固定在三轴位移台上。

7.根据权利要求6所述的一种磁场测量系统，其特征在于，所述芯片还用于：

当磁源为贴合在平面板上的磁力矩器时，且当待测位置位于所述磁力矩器的磁芯的轴线上时，通过拍摄装置获取至少含有所述平面板、磁力矩器和霍尔片的图像，并根据所述图像的像素确定所述平面板与所述霍尔片是否平行，得到判断结果，当所述判断结果为是时，确定所述磁力矩器平行贴合在所述平面板上。

8.根据权利要求7所述的一种磁场测量系统，其特征在于，所述根据所述图像的像素确定所述平面板与所述霍尔片是否平行的过程，包括：

获取并将所述平面板所在位置的任一列像素作为第一对比列像素，获取并将所述霍尔片所在位置的任一列像素作为第二对比列像素，计算所述第一对比列像素与所述第二对比列像素中的同行之间的两个像素之间的间隔像素数量是否均相等，若是，则所述判断结果为是。

9.根据权利要求7所述的一种磁场测量系统，其特征在于，所述芯片还用于：

当所述判断结果为否时，在所述图像上建立二维坐标系，将所述平面板、所述磁力矩器的磁芯的轴线和霍尔片映射到所述二维坐标系中，计算得到所述平面板的目标调整角度，根据所述目标调整角度对所述平面板进行调整，直至使所述判断结果为是。

10.根据权利要求6至9任一项所述的一种磁场测量系统，其特征在于，所述磁场生成装置为亥姆霍兹线圈或螺线管。