[发明专利]一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种化学机械抛光垫的制备方法，其特征在于，其包括如下步骤

S1.制备聚氨酯浆料；

S2.将S1所得聚氨酯浆料涂覆于透明薄膜卷材表面，并用凝结液进行凝固，得到聚氨酯膜；

S3.将S2所得聚氨酯膜浸泡于碱溶液中，随后用水清洗、后处理，即得；

所述S1中聚氨酯浆料的制备原料，以重量份计，包括含酯键的聚合物0.5-13份、极性溶剂15-65份、阴离子物质1-6份、聚氨酯树脂100份。

2.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫的制备方法，其特征在于，所述含酯键的聚合物选自聚乳酸、聚乳酸羟基乙酸共聚物、聚丁二酸丁二醇酯、碱溶性聚酯、聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫的制备方法，其特征在于，所述S1中制备聚氨酯浆料的具体操作为：将含酯键的聚合物、阴离子物质在极性溶剂中分散均匀后，加入聚氨酯树脂，即得；

所述含酯键的聚合物为经过预处理后的微米级含酯键的聚合物粉末。

4.根据权利要求1或3所述的一种化学机械抛光垫的制备方法，其特征在于，所述阴离子物质选自十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠、琥珀酸二辛酯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚磺基琥珀酸单酯二钠、木质素磺酸盐、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠、月桂醇硫酸钠中的至少一种。

5.根据权利要求4所述的一种化学机械抛光垫的制备方法，其特征在于，所述预处理的具体操作为：将不饱和键的聚合物通过第一次粉碎处理后成为小颗粒，第二次粉碎处理后成为细小粉末，然后用不锈钢筛网筛取粉末，即得。

6.根据权利要求5所述的一种化学机械抛光垫的制备方法，其特征在于，所述不锈钢筛网的目数为800～2000目；

所述含酯键的聚合物粉末的平均粒径为≤25μm。

7.根据权利要求6所述的一种化学机械抛光垫的制备方法，其特征在于，所述粉碎处理的方式选自机械粉碎机粉碎、研磨机粉碎、气流粉碎机粉碎中的一种。

8.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫的制备方法，其特征在于，所述S3中碱溶液选自氢氧化锂水溶液、氢氧化钠水溶液、氢氧化钾水溶液、碳酸钠水溶液、氨水水溶液中的至少一种；

所述碱溶液的温度为1～100℃；所述碱溶液中溶质的质量百分数为1％～55％。

9.一种化学机械抛光垫，其特征在于，其是由权利要求1-8任一项所述的制备方法得到。

10.一种根据权利要求9所述的化学机械抛光垫的应用，其特征在于，其用于半导体芯片制造的化学机械抛光工艺。