[发明专利]基板处理装置

说明书

本发明提供一种基板处理装置，抑制伴随微粒向基板上附着而产生的图案倒塌。本公开的基板处理装置是对湿润的状态下的多个基板统一地进行干燥处理的基板处理装置。实施方式所涉及的基板处理装置具备腔室、保持部、疏水化剂喷嘴、第一有机溶剂喷嘴、第二有机溶剂喷嘴以及排气口。腔室具有能够收容多个基板的气密空间。保持部使多个基板在气密空间中的用于贮存液体的贮存区域与气密空间中的位于贮存区域的上方的干燥区域之间进行升降。疏水化剂喷嘴对干燥区域供给疏水化剂的蒸气。第一有机溶剂喷嘴从干燥区域朝向贮存区域供给有机溶剂。第二有机溶剂喷嘴对干燥区域供给有机溶剂的蒸气。排气口将气密空间内的气体排出。

技术领域

本公开涉及一种基板处理装置。

背景技术

在使半导体晶圆等基板干燥的干燥处理中，形成于基板的表面的电路图案(下面，简称为“图案”)有可能由于液体的表面张力而倒塌。

因此，已知如下一种技术：在使对有机溶剂进行蒸气化而得到的有机溶剂蒸气与液处理后的基板接触来将基板上的处理液置换为有机溶剂后，通过挥发等来从基板上去除有机溶剂，由此在抑制图案倒塌并且使基板干燥。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-058696号公报

发明内容

发明要解决的问题

本公开提供一种能够抑制伴随微粒向基板上附着而产生的图案倒塌的技术。

用于解决问题的方案

本公开的一个方式的基板处理装置是对湿润的状态下的多个基板统一地进行干燥处理的基板处理装置。实施方式所涉及的基板处理装置具备腔室、保持部、疏水化剂喷嘴、第一有机溶剂喷嘴、第二有机溶剂喷嘴以及排气口。腔室具有能够收容多个基板的气密空间。保持部使多个基板在气密空间中的用于贮存液体的贮存区域与气密空间中的位于贮存区域的上方的干燥区域之间进行升降。疏水化剂喷嘴对干燥区域供给疏水化剂的蒸气。第一有机溶剂喷嘴从干燥区域朝向贮存区域供给有机溶剂。第二有机溶剂喷嘴对干燥区域供给有机溶剂的蒸气。排气口将气密空间内的气体排出。

发明的效果

根据本公开，能够抑制伴随微粒向基板上附着而产生的图案倒塌。

附图说明

图1是实施方式所涉及的基板处理装置的示意性的截面图。

图2是表示实施方式所涉及的疏水化剂喷嘴和第二有机溶剂喷嘴的结构的示意性的侧视图。

图3是表示实施方式所涉及的基板处理装置执行的处理的过程的一例的流程图。

图4是表示实施方式所涉及的基板处理装置的动作例的图。

图5是表示实施方式所涉及的基板处理装置的动作例的图。

图6是表示实施方式所涉及的基板处理装置的动作例的图。

图7是表示实施方式所涉及的基板处理装置的动作例的图。

图8是表示实施方式所涉及的基板处理装置的动作例的图。

图9是表示实施方式所涉及的基板处理装置的动作例的图。

图10是表示实施方式所涉及的基板处理装置的动作例的图。

图11是表示实施方式所涉及的基板处理装置的动作例的图。

图12是表示实施方式所涉及的基板处理装置的动作例的图。

图13是表示实施方式所涉及的基板处理装置的动作例的图。

图14是表示实施方式所涉及的基板处理装置的动作例的图。