[发明专利]一种基于CMP模型与参数搜索OMP算法的分层介质参数反演方法在审

专利信息
申请号: 202210773020.7 申请日: 2022-06-30
公开(公告)号: CN115308735A 公开(公告)日: 2022-11-08
发明(设计)人: 杨小鹏;渠晓东;刘仁杰;兰天;曾小路 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G01S13/88 分类号: G01S13/88;G01S7/41
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 李爱英
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 cmp 模型 参数 搜索 omp 算法 分层 介质 反演 方法
【权利要求书】:

1.一种基于CMP模型与参数搜索OMP算法的分层介质参数反演方法,其特征在于该方法的步骤包括:

步骤1,构建多层CMP模型的传播时延;

步骤2,根据步骤1构建的传播时延,构建多层CMP模型的稀疏向量;

步骤3,根据步骤2得到的多层CMP模型的稀疏向量,构建多层CMP稀疏模型;

步骤4,根据步骤3构建的多层CMP稀疏模型利用OMP算法进行参数反演,得到反演参数;

步骤5,根据步骤4得到的反演参数对道路结构的检测进行指导。

2.根据权利要求1所述的一种基于CMP模型与参数搜索OMP算法的分层介质参数反演方法,其特征在于:

所述的步骤1中,构建多层CMP模型的传播时延的方法为:

第1个分层界面反射波的传播时延为:

其中,d1r1分别表示第一层介质的厚度与相对介电常数,c表示光速,2Lj表示第j道A-scan的天线收发间距,n表示探地雷达测量的A-scan道数;

第K个分层界面反射波的传播时延表示为:

其中,dkrk分别表示第k层介质的厚度与相对介电常数,x1,x2,...,xK表示电磁波在第1,2,...K个分层介质内的横向偏移距离。

3.根据权利要求2所述的一种基于CMP模型与参数搜索OMP算法的分层介质参数反演方法,其特征在于:

所述的x1,x2,...,xK的确定方法为:

4.根据权利要求1-3任一所述的一种基于CMP模型与参数搜索OMP算法的分层介质参数反演方法,其特征在于:

所述的步骤2中,构建多层CMP模型的稀疏向量的方法为:

基于单层CMP模型,k=1,假设第1层介质参数分别为d=[d1,1,d1,2,...,d1,M1],其中M1,M2分别为厚度与等效介电常数的网格点数,离散间隔分别为Δd1,Δεr1,则介质参数组合表示为[(d1,1r1,1),(d1,1r1,2),...,(d1,1r1,M2),(d1,2r1,1)...,(d1,M1r1,M2)],反射波时延表示为:

F1=[T1(d1,1r1,1,Lj),T1(d1,1r1,2,Lj),...,T1(d1,1r1,M2,Lj),T1(d1,2r1,1,Lj)...,T1(d1,M1r1,M2,Lj)]

基于K层CMP模型,假设已知前K-1层介质的厚度与相对介电常数,其中k=K,设第K层介质的厚度与相对介电常数分别为d=[dK,1,dK,2,...,dK,M1],离散间隔分别为ΔdK,ΔεrK,则介质参数为[(dK,1rK,1),(dK,1rK,2),...,(dK,1rK,M2),(dK,2rK,1)...,(dK,M1rK,M2)],反射波时延表示为:

FK=[TK(dK,1rK,1,Lj),TK(dK,1rK,2,Lj),...,TK(dK,1rK,M2,Lj),TK(dK,2rK,1,Lj)...,TK(dK,M1rK,M2,Lj)]

其中,反射时延中涉及的折射点位置由前K-1层介质参数与第K层假设参数联合计算得到;

根据CMP模型推导得到的反射波时延集合FK,K层CMP模型的稀疏向量表示为:

其中,N为频域采样点数,f1,f2,...,fN为频域采样值,且fi=f1+(i-1)Δf,fi表示第i个频点采样值,Δf为频域采样间隔。

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