[发明专利]成像设备

权利要求书

1.一种成像设备，所述成像设备包括：

图像承载构件，所述图像承载构件构造成能够旋转；

显影剂承载构件，所述显影剂承载构件构造成能够旋转并且在形成于所述显影剂承载构件和所述图像承载构件之间的夹持部区域处利用显影剂显影静电潜像；

驱动单元，所述驱动单元构造成旋转驱动所述图像承载构件和所述显影剂承载构件，使得所述图像承载构件和所述显影剂承载构件的圆周速度单独变化；

控制单元，所述控制单元构造成控制所述驱动单元；

显影电压施加单元，所述显影电压施加单元构造成向所述显影剂承载构件施加显影电压；

供应构件，所述供应构件构造成将显影剂供应到所述显影剂承载构件；以及

供应构件电压施加单元，所述供应构件电压施加单元构造成向所述供应构件施加供应电压，其中

所述控制单元构造成进行控制以能够执行第一成像模式和第二成像模式，在所述第一成像模式中表示所述显影剂承载构件的表面移动速度与所述图像承载构件的表面移动速度之间的比率的旋转圆周速度比不大于1，在所述第二成像模式中所述旋转圆周速度比大于1，并且

所述控制单元构造成进行控制使得所述显影电压和所述供应电压之间的差在所述控制单元执行所述第二成像模式的情况下比在所述控制单元执行所述第一成像模式的情况下更大。

2.根据权利要求1所述的成像设备，其中

所述控制单元构造成进行控制使得所述图像承载构件的所述表面移动速度在所述控制单元执行所述第二成像模式的情况下比在所述控制单元执行所述第一成像模式的情况下更小。

3.根据权利要求1或2所述的成像设备，所述成像设备还包括曝光单元，所述曝光单元构造成基于图像信息对所述图像承载构件的表面进行曝光并且形成静电潜像，其中

所述控制单元构造成进行控制使得所述显影电压和在所述图像承载构件的表面由所述曝光单元曝光时形成在所述表面上的表面电位之间的差在所述控制单元执行所述第二成像模式的情况下比在所述控制单元执行所述第一成像模式的情况下更大。

4.根据权利要求1所述的成像设备，其中

所述控制单元构造成进行控制使得在所述第一成像模式中所述显影剂承载构件和所述图像承载构件之间的旋转圆周速度比不大于0.95。

5.根据权利要求4所述的成像设备，其中

所述控制单元构造成进行控制使得在所述第一成像模式中所述显影剂承载构件和所述图像承载构件之间的旋转圆周速度比至少为0.7。

6.根据权利要求1所述的成像设备，其中

所述控制单元构造成进行控制使得在所述第二成像模式中所述显影剂承载构件和所述图像承载构件之间的旋转圆周速度比不大于1.5。

7.一种成像设备，所述成像设备包括：

图像承载构件，所述图像承载构件构造成能够旋转；

显影剂承载构件，所述显影剂承载构件构造成能够旋转并且在形成于所述显影剂承载构件和所述图像承载构件之间的夹持部区域处利用显影剂显影静电潜像；

驱动单元，所述驱动单元构造成旋转驱动所述图像承载构件和所述显影剂承载构件，使得所述图像承载构件和所述显影剂承载构件的圆周速度单独变化；

控制单元，所述控制单元构造成控制所述驱动单元；

显影剂容器，所述显影剂容器构造成容纳待供应到所述显影剂承载构件的显影剂；以及

输送构件，所述输送构件布置在所述显影剂容器内部并且构造成围绕旋转轴旋转以搅拌和输送所述显影剂，其中

所述控制单元构造成进行控制以能够执行第一成像模式和第二成像模式，在所述第一成像模式中表示所述显影剂承载构件的表面移动速度与所述图像承载构件的表面移动速度之间的比率的旋转圆周速度比不大于1，在所述第二成像模式中所述旋转圆周速度比大于1，并且

所述控制单元构造成进行控制使得所述输送构件的旋转速度在所述控制单元执行所述第一成像模式的情况和所述控制单元执行所述第二成像模式的情况之间变化。