[发明专利]光学系统、镜头模组及电子设备在审
申请号: | 202210740076.2 | 申请日: | 2022-06-28 |
公开(公告)号: | CN115166936A | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 邓嘉伟;刘彬彬 | 申请(专利权)人: | 江西晶超光学有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/14;G02B13/18 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 何锋 |
地址: | 330096 江西省南昌市*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学系统 镜头 模组 电子设备 | ||
1.一种光学系统,其特征在于,所述光学系统中具有屈折力的透镜的数量为三片,所述光学系统沿光轴由物侧至像侧依次包括:
具有正屈折力的第一透镜,所述第一透镜的物侧面于近光轴处为凸面,像侧面于近光轴处为凹面;
具有屈折力的第二透镜,所述第二透镜的物侧面于近光轴处为凹面;
具有屈折力的第三透镜,所述第三透镜的物侧面于近光轴处为凸面,像侧面于近光轴处为凹面;
且所述光学系统满足以下条件式:
2.4mm-2≤1/(FNO*CT1)2≤3.5mm-2;
其中,FNO为所述光学系统的光圈数,CT1为所述第一透镜于光轴上的厚度。
2.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,满足以下条件式:
4.35≤(TTL/EPD)2≤4.95;
其中,TTL为所述第一透镜的物侧面至所述光学系统的成像面于光轴上的距离,EPD为所述光学系统的入瞳直径。
3.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,满足以下条件式:
2.2mm2≤f*EPD≤2.9mm2;
其中,f为所述光学系统的有效焦距,EPD为所述光学系统的入瞳直径。
4.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,满足以下条件式:
2.85mm2≤(ImgH/tan(HFOV))2≤3.7mm2;
其中,ImgH为所述光学系统的最大视场角所对应的像高的一半,HFOV为所述光学系统的最大视场角的一半。
5.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,满足以下条件式:
3.7mm≤TTL*FNO≤4.3mm;
其中,TTL为所述第一透镜的物侧面至所述光学系统的成像面于光轴上的距离。
6.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,满足以下条件式:
7≤ImgH/SAG11≤8.5;
其中,ImgH为所述光学系统的最大视场角所对应的像高的一半,SAG11为所述第一透镜的物侧面于最大有效口径处的矢高。
7.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,满足以下条件式:
3.25mm≤TTL*tan(HFOV)*FNO≤3.75mm;
其中,TTL为所述第一透镜的物侧面至所述光学系统的成像面于光轴上的距离,HFOV为所述光学系统的最大视场角的一半。
8.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,满足以下条件式:
2.75mm3≤BFL*f2≤3.45mm3;
其中,BFL为所述第三透镜的像侧面至所述光学系统的成像面于光轴上的距离,f为所述光学系统的有效焦距。
9.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,满足以下条件式:
900deg2≤|SLP11*SLP22|≤1300deg2;
其中,SLP11为所述第一透镜的物侧面的切平面与垂直于光轴的平面之间的最大锐角夹角,SLP22为所述第二透镜的像侧面的切平面与垂直于光轴的平面之间的最大夹角。
10.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述第三透镜的像侧面存在反曲点,且所述光学系统满足以下条件式:
1.8mm≤SD322/YC32≤2.4mm;
其中,SD32为所述第三透镜的像侧面的最大有效半口径,YC32为所述第三透镜的像侧面距离光轴最远的反曲点在垂直于光轴的方向上与光轴之间的距离。
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