[发明专利]基于多维超复数连续正交矩的光场图像零水印方法及系统

权利要求书

1.基于多维超复数连续正交矩的光场图像零水印方法，其特征在于，包括：

响应于零水印构造指令，获取四维光场图像，根据四维光场图像的结构特点选取超复数，并获得若干种多维超复数连续正交矩，通过光场图像零水印算法对所述四维光场图像进行处理，得到若干种二值特征图像，并将每种二值特征图像变换加密，得到光场零水印图像；

响应于零水印验证指令，获取待验证四维光场图像，采用零水印构造过程中的超复数和若干种多维超复数连续正交矩，通过光场图像零水印算法对所述待验证四维光场图像进行处理，得到若干种待验证二值特征图像，并将零水印构造过程中得到的光场零水印图像进行逆变换解密后，与所述待验证二值特征图像，进行一致性计算。

2.如权利要求1所述的基于多维超复数连续正交矩的光场图像零水印方法，其特征在于，所述光场图像零水印算法采用的阶数和重复度的范围与选取的多维超复数连续正交矩相关。

3.如权利要求2所述的基于多维超复数连续正交矩的光场图像零水印方法，其特征在于，所述光场图像零水印算法的具体步骤为：

基于所述超复数和多维超复数连续正交矩，计算四维光场图像的多维超复数张量；

基于所述四维光场图像的多维超复数张量，构造幅值张量；

将幅值张量二值化，得到四维二值特征张量；

对四维二值特征张量进行转换，得到二值特征图像。

4.如权利要求3所述的基于多维超复数连续正交矩的光场图像零水印方法，其特征在于，所述构造幅值张量的具体方法为：

对所述四维超复数张量取范数，得到包含若干个幅值的幅值张量；

基于幅值的个数，判断是否满足零水印容量，若不满足，则将幅值张量的最后两维复制并扩展；若超过容量，则截取幅值张量最后两维的幅值。

5.如权利要求3所述的基于多维超复数连续正交矩的光场图像零水印方法，其特征在于，所述四维光场图像的多维超复数张量为：

其中，C是一个常数；f^L(u,v,r,θ)表示四维光场图像f^L(u,v,s,t)的极坐标形式；n和m分别代表阶数和重复度；是基函数B_nm(r,θ)的共轭。

6.如权利要求5所述的基于多维超复数连续正交矩的光场图像零水印方法，其特征在于，所述基函数表示为：

B_nm(r,θ)＝R_n(r)exp(μmθ)

其中，R_n(r)是径向基函数，exp(μmθ)是角度傅里叶因子，μ是超复数。

7.如权利要求1所述的基于多维超复数连续正交矩的光场图像零水印方法，其特征在于，所述一致性为正码率和归一化相关性的比值。

8.基于多维超复数连续正交矩的光场图像零水印系统，其特征在于，包括：

零水印构造模块，其被配置为：响应于零水印构造指令，获取四维光场图像，根据四维光场图像的结构特点选取超复数，并获得若干种多维超复数连续正交矩，通过光场图像零水印算法对所述四维光场图像进行处理，得到若干种二值特征图像，并将每种二值特征图像变换加密，得到光场零水印图像；

零水印验证模块，其被配置为：响应于零水印验证指令，获取待验证四维光场图像，采用零水印构造过程中的超复数和若干种多维超复数连续正交矩，通过光场图像零水印算法对所述待验证四维光场图像进行处理，得到若干种待验证二值特征图像，并将零水印构造过程中得到的光场零水印图像进行逆变换解密后，与所述待验证二值特征图像，进行一致性计算。

9.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该程序被处理器执行时实现如权利要求1-7中任一项所述的基于多维超复数连续正交矩的光场图像零水印方法中的步骤。

10.一种计算机设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述程序时实现如权利要求1-7中任一项所述的基于多维超复数连续正交矩的光场图像零水印方法中的步骤。