[发明专利]显示面板用沉积掩模版框架组件制造方法在审

专利信息
申请号: 202210734639.7 申请日: 2022-06-27
公开(公告)号: CN115725934A 公开(公告)日: 2023-03-03
发明(设计)人: 金正镐 申请(专利权)人: KPS株式会社
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C16/04;H10K71/16
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨文娟;臧建明
地址: 韩国京畿道华*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 沉积 模版 框架 组件 制造 方法
【说明书】:

发明涉及沉积掩模版框架组件制造方法,更详细地说,在框架上配置支撑掩模版条及狭缝掩模版条来焊接于框架,在沉积掩模版条被沿着长度方向以X轴方向拉伸,同时被以Y轴方向粘附拉伸的状态下在框架焊接沉积掩模版条的边框形成一体,以防止因为拉伸在沉积掩模版出现褶皱,进而可制造出精确且高质量的沉积掩模版框架组件。

技术领域

本发明涉及显示面板用沉积掩模版框架组件制造方法,更详细地说,涉及拉伸并焊接掩模版来制造掩模版框架组件的技术。

背景技术

在显示装置中,利用有机发光二极管的OLED显示面板为视角广、对比度(Contrast)优秀,不仅如此还具有响应速度快的优点。据此,处于有机发光二极管(OLED)的使用领域正在逐渐扩大的趋势。

包括这种有机发光二极管(OLED)的电极与发光层的中间层可通过各种方法形成,其中之一的方法就是沉积法。

为了制造中小型OLED显示面板,在OLED制造工艺中进行有机物及无机物的沉积工艺来制作RGB像素。即,精细金属掩模版(Fine Metal Mask,FMM)具有与在TFT玻璃(Thinfilm transistor glass)上待形成的薄膜等的图像相同的图案,对准所述精细金属掩模版的位置来沉积薄膜的原材料,以形成所希望的图案的薄膜。这种沉积工艺采用了在位于腔室下部的沉积源中加热有机物,将加热的有机物升华通过位于上部的掩模版来沉积于TFT玻璃的方法。

这种精细金属掩模版(FMM)整体具有条形状,因此也称为沉积掩模版条。通常,将沉积掩模版条的一端及另一端同时拉伸,将沉积掩模版条激光焊接于掩模版框架,进而制造出了沉积掩模版框架组件。

沉积掩模版条能够大量生产显示面板,因此广泛使用于沉积掩模版框架组件的制造,利用沉积掩模版框架组件生产诸如智能手机的比较小的显示面板,但是近来处于需要开发能够适用于平板PC或者笔记本电脑等中大型尺寸的显示面板的掩模版条框架组件的状况。

图1是说明沉积掩模版条的图。图1的(a)是示出沉积掩模版条的上面的图;图1的(b)是示出图1的(a)的A-A’的剖面的图。

如图1的(a)所示,通常称为精细金属掩模版(FMM)的沉积掩模版条100包括结构用掩模版条110、多个单体单位掩模版120,并且以长度方向延伸。

结构用掩模版条110由边框111与肋条112构成,多个单体单位掩模版120形成有多个沉积图案孔P。在一个结构用掩模版条110可存在多个单体单位的掩模版。在一个单体单位掩模版可形成数十万个~数百万个的沉积图案孔P。在边框111的一端与另一端还对称配置多个裙边113,可作为夹持区域执行功能。夹持器(未示出)夹持裙边可沿着长度方向以X轴方向容易执行拉伸(Tx)。每个裙边配置一个夹持器进行夹持,如图1的(a)所示,在具有8个裙边的情况下,8个夹持器同时执行拉伸。

结构用掩模版条110可具有100μm至200μm的厚度、1m以上的长度、数十cm的宽度,单体单位掩模版120可具有10μm至20μm的厚度。单体单位掩模版120与结构用掩模版条110可无缝一体化,也可单独制造通过焊接结合,因此存在接缝。

另外,结构用掩模版条110还包括肋条112,肋条112是指配置在单体单位掩模版120与单体单位掩模版120之间并且未形成沉积图案孔的区域。

然而,如上所述通过多个夹持器同时拉伸大型沉积掩模版条的情况下,对于沉积掩模版条无法均匀地施加拉伸力,因此出现褶皱,与此同时出现以Y轴方向(箭头方向)收缩的问题。例如,在一端具有4个裙边,因此若用4个夹持器夹持,则如图所示可出现3个褶皱W1、W2、W3。在收缩力方面,沉积掩模版条的中间区域的收缩力大于端部区域,因此褶皱的大小及深度也是沉积掩模版条的中间区域更大。

另外,沉积掩模版条的侧边越大,肋条也以Y轴方向变得越长越重,因此出现肋条因为重力下沉的现象。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于KPS株式会社,未经KPS株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210734639.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top