[发明专利]一种钛镍记忆合金倒刺缝合线在审
| 申请号： | 202210733436.6 | 申请日： | 2022-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN115054721A | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 刘明源 | 申请（专利权）人： | 刘明源 |
| 主分类号： | A61L17/04 | 分类号： | A61L17/04;A61L17/14;A61L17/00;A61B17/06 |
| 代理公司： | 西安合创非凡知识产权代理事务所(普通合伙) 61248 | 代理人： | 白文佳 |
| 地址： | 710032 陕西省*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 记忆 合金 倒刺 缝合线 | ||
1.一种钛镍记忆合金倒刺缝合线，包括镍钛记忆合金缝合线本体及配置在镍钛记忆合金缝合线本体首尾两端的夹线扣，其特征在于：还包括一体成型于镍钛记忆合金缝合线本体上的倒刺、以及均匀附着在镍钛记忆合金缝合线本体及倒刺表面的抗菌涂层。
2.如权利要求1所述的一种钛镍记忆合金倒刺缝合线，其特征在于：所述倒刺通过切割镍钛记忆合金缝合线本体形成，呈螺旋状环绕分布在镍钛记忆合金缝合线本体核心周围。
3.如权利要求2所述的一种钛镍记忆合金倒刺缝合线，其特征在于：切割角度为120度～185度之间。
4.如权利要求2所述的一种钛镍记忆合金倒刺缝合线，其特征在于：每厘米设置8～14个单向倒刺或者双针双向倒刺，两组倒刺之间的距离在1cm，且相邻两组倒刺的切割方向相反。
5.如权利要求1所述的一种钛镍记忆合金倒刺缝合线，其特征在于：所述抗菌涂层包括聚乳酸-羟基乙酸共聚物，沉积在聚乳酸-羟基乙酸共聚物上的壳聚糖与厚朴酚构成的混合物。
6.如权利要求5所述的一种钛镍记忆合金倒刺缝合线，其特征在于：聚乳酸-羟基乙酸共聚物经聚乙二醇修饰后沉积壳聚糖与厚朴酚构成的混合物。
7.如权利要求5所述的一种钛镍记忆合金倒刺缝合线，其特征在于：聚乳酸-羟基乙酸共聚物与壳聚糖与厚朴酚构成的混合物的质量比为5～7:1，聚乙二醇与壳聚糖与厚朴酚构成的混合物的质量比为3～5:1，壳聚糖与厚朴酚的质量比为1:1。
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