[发明专利]用于处理基板的装置和用于处理基板的方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，所述基板处理装置包括：

腔室，所述腔室设置有处理空间；

基板支承单元，所述基板支承单元设置在所述处理空间中；

窗口，所述窗口设置在所述腔室的顶部处；以及

光学模块，所述光学模块设置在所述窗口的上方、且配置为通过所述窗口将激光光束传输到基板，并且

其中，所述光学模块包括：

均化光学器件，所述均化光学器件配置为将所述激光光束均化成均匀的光束分布；以及

成像光学器件，所述成像光学器件配置为控制所述激光光束的大小。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，所述基板处理装置还包括：

透明电极，所述透明电极设置在所述激光光束的光路处；以及

底部电极，所述底部电极定位在所述基板的下方。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述透明电极在所述窗口上。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，所述基板处理装置还包括高频电源，所述高频电源连接到所述透明电极或所述底部电极、或所述透明电极和所述底部电极两者。

5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述透明电极包括选自由以下构成的组的至少一个：铟锡氧化物ITO、AZO、FTO、ATO、SnO₂、ZnO、IrO₂、RuO₂、石墨烯、金属纳米线、CNT、以及它们的任何组合、和它们的任何混合物。

6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述透明电极设置为涂覆所述窗口。

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述窗口包括石英材料、或由石英材料制成。

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述光学模块还包括准直光学器件。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述窗口定位在来自所述光学模块的激光光束的光路处。

10.根据权利要求1所述的基板处理装置，所述基板处理装置还包括：

激光光束发生器，所述激光光束发生器配置为生成所述激光光束；以及

光纤，所述光纤光学地连接所述激光光束发生器和所述光学模块，并且

其中，传输至所述光学模块的激光光束为脉冲激光光束。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，所述脉冲激光光束的脉冲宽度为皮秒至纳秒。

12.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，所述脉冲激光光束的脉冲持续时间为1纳秒至100毫秒。

13.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述激光光束被配置为将所述基板加热到500℃或更高的温度。

14.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述激光光束被配置为将10mJ/cm²或更高的能量施用到所述基板。