[发明专利]一种低温瓷的配方及工艺

权利要求书

1.一种低温瓷的配方，其特征在于，包括以下重量份原料：

高岭土15.5-45.6份、长石10.6-39.5份、石英15.0-45.0份、瓷石20.0-50.0份、粘土5.5-25.8份、改性滑石2.4-18.8份、白云石0.5-5.8份、改性石墨烯1.2-1.8份；所述改性滑石的制备方法为：

S01：将滑石先送入到质子辐照箱内辐照10-20min，辐照功率为300-500W，辐照结束，得到辐照型滑石；

S02：将5-10份十二烷基硫酸钠加入到10-15份壳聚糖溶液中，然后加入盐酸，调节pH至4.5，随后加入2-4份添加剂，搅拌混合充分，得到改性剂；

S03：S01辐照型滑石加入到3-6倍的S02改性剂中，于65-75℃下搅拌10-20min，搅拌结束，水洗、干燥，得到改性滑石；所述改性石墨烯的改性方法为：

将石墨烯送入到3-5倍的混合酸中超声分散充分，然后水洗、干燥；再置于热煅烧炉中进行热处理；

热处理的具体步骤为：将石墨烯先以300-350℃处理5-10min，然后以1-3℃/min的速率升至410-430℃，石墨烯表面喷洒质量分数5%的硝酸钡水溶液，喷洒至表面润湿，然后空冷至室温。

2.根据权利要求1所述的一种低温瓷的配方，其特征在于，所述低温瓷的配方包括以下重量份原料：

高岭土26.8份、长石18.0份、石英21.0份、瓷石20.7份、粘土8.6份、改性滑石9.1份、白云石1.8份、改性石墨烯1.2-1.8份。

3.根据权利要求1所述的一种低温瓷的配方，其特征在于，所述S03的搅拌转速为600-800r/min。

4.根据权利要求1所述的一种低温瓷的配方，其特征在于，所述壳聚糖溶液为壳聚糖、去离子水按照重量比1:10配制而成。

5.根据权利要求1所述的一种低温瓷的配方，其特征在于，所述添加剂包括以下重量份原料：硫酸镧1-3份、氧化锆0.2-0.6份、四正丙基锆酸酯1-2份。

6.根据权利要求1所述的一种低温瓷的配方，其特征在于，所述混合酸为柠檬酸、草酸、去离子水按照重量比1:2:7混合。

7.根据权利要求1所述的一种低温瓷的配方，其特征在于，所述超声分散的功率为350-450W，超声时间为10-20min。

8.一种如权利要求1-7任一项所述低温瓷生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一，按照重量份称取原料：

步骤二，将原料依次加入到球磨机中球磨，球磨转速为1000-1500r/min，球磨时间为20-30min；

步骤三，随后再进行热烧结处理，热烧结温度为1080-1190℃，烧结1-2h，得到低温瓷。