[发明专利]一种短期内缓解厌氧氨氧化污泥光抑制的方法有效

专利信息
申请号: 202210697665.7 申请日: 2022-06-20
公开(公告)号: CN114920357B 公开(公告)日: 2023-02-24
发明(设计)人: 黄宝成;任之琪;张丽格;杜雪宁;金仁村 申请(专利权)人: 杭州师范大学
主分类号: C02F3/28 分类号: C02F3/28;C02F1/30
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 朱亚冠
地址: 311121 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 短期内 缓解 厌氧氨 氧化 污泥 抑制 方法
【说明书】:

本发明公开了一种短期内缓解厌氧氨氧化污泥光抑制的方法,包括步骤:采用水热碳化法制备硒掺杂碳量子点溶液,分别以不用的比例加入到厌氧氨氧化污泥基质液中,通过批次实验测定了厌氧氨氧化污泥活性,同时对胞内的活性氧和丙二醛含量进行了测定,最后对厌氧氨氧化污泥功能基因进行定量测定分析。本发明利用硒掺杂碳量子点对活性氧的清除能力以及吸收紫外光发射波长更长的光从而抵御紫外光对细菌的损害能力,在高光照条件下实现了厌氧氨氧化反应器的稳定脱氮,为光照条件下厌氧氨氧化污泥受到的光抑制问题提供了解决方案,在添加硒掺杂碳量子点后可使厌氧氨氧化污泥活性恢复到黑暗水平。具有操作简便、成本低等优点,为厌氧氨氧化工艺的稳定运行提供了新的方法与思路。

技术领域

本发明涉及水处理技术领域,具体涉及一种短期内缓解厌氧氨氧化污泥光抑制的方法。

背景技术

厌氧氨氧化是一种以氨作为电子供体,亚硝酸盐作为电子受体,在缺氧条件下产生氮气和硝酸盐的生物反应。由于厌氧氨氧化反应不需要额外的碳源或曝气,近年来厌氧氨氧化自养脱氮工艺逐渐受到重视并得到了更广泛的应用。但是厌氧氨氧化细菌10-12天的较长生长周期及其对环境条件的敏感性阻碍了该技术在实际应用中的发展。

由于厌氧氨氧化细菌生长缓慢,光照、温度、pH、溶解氧等环境因素的变化会显著影响污泥活性,从而导致反应器性能的恶化。在厌氧氨氧化过程中,光照条件是一个重要的控制参数,由于厌氧氨氧化细菌是光敏微生物,光照会抑制其的生长活性。因此,在反应器实际运行中,通常采用遮光措施来避免光照对厌氧氨氧化污泥带来的负面影响。

高强度的光照可以在活细胞中产生活性氧,如果活性氧的产生速率超过其降解速率,过量的活性氧会攻击蛋白质、核酸和脂类等生物大分子,从而造成氧化损伤。为了维持氧化还原的平衡,微生物形成了一整套的保护机制。抗氧化系统由非酶系统(如抗坏血酸和黄酮类化合物)和酶系统(如谷胱甘肽过氧化物酶、超氧化物歧化酶、过氧化氢酶)组成。

公开号为CN108504619B的专利说明书公开了一种缓解雨生红球藻光抑制的方法,在雨生红球藻细胞培养达到平台期时,将光照强度转至强光。通过在培养基质中添加丙三醇或醋酸钠来缓解藻细胞受到的光抑制。但是需要在培养阶段转换时一次或多次添加小分子有机物,步骤繁杂,操作条件要求高。

以上现有技术均不是针对厌氧氨氧化反应器在光照条件下受到的氧化应激方面,没有解决如何缓解光敏性厌氧氨氧化细菌受到的光抑制问题。当光照等外部条件的变化导致活性氧过量产生时,需要向系统中添加抗氧化剂或活性氧清除剂等外源添加剂,以缓解厌氧氨氧化污泥受到的氧化应激作用。因此,在光照条件下添加硒掺杂碳量子点缓解厌氧氨氧化细菌活性氧光抑制的效果具有重要意义。

发明内容

本发明的目的是针对厌氧氨氧化反应存在的不足之处,提供了一种短期内缓解厌氧氨氧化污泥光抑制的方法。利用硒掺杂碳量子点对活性氧的清除能力及其吸收紫外光并发射波长更长的光来抵御紫外光对细菌损害的能力,为光照条件下厌氧氨氧化污泥受到的光抑制问题提供了解决方案,添加硒掺杂碳量子点后可使厌氧氨氧化污泥活性恢复到黑暗水平。本发明操作简便、成本低,可使光照下的厌氧氨氧化污泥反应器的活性提升,有利于厌氧氨氧化反应器的稳定运行。

一种短期内缓解厌氧氨氧化污泥光抑制的方法,采用如下处理步骤:

(1)硒掺杂碳量子点的制备:以硒代半胱氨酸为合成原料利用水热碳化法制备硒掺杂碳量子点,溶解于超纯水中,调节pH为碱性促进硒代半胱氨酸的溶解,将溶液转移至反应釜中在55℃-65℃的环境下反应中,反应完成后离心取上清液即为硒掺杂碳量子点溶液。

(2)将制备好的硒掺杂碳量子点加入至无机盐溶液清洗后的厌氧氨氧化污泥体系中,在光照条件下维持厌氧氨氧化污泥的活性,以实现反应器的稳定运行。

作为优选,步骤(1)中,所述的用超纯水配制的硒代半胱氨酸溶液的质量含量为1.5%-2.0%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州师范大学,未经杭州师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210697665.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top