[发明专利]一种中熵合金涂层的强化方法

权利要求书

1.一种中熵合金涂层的强化方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)构件处理

将需要涂层的构件表面依次经打磨、抛光、清洗、烘干，备用；

(2)靶材预处理

将中熵合金靶以及Al靶分别安装在真空磁控溅射镀膜机的两个直流靶位置；将步骤(1)处理后的构件作为基体固定于样品台上，关闭溅射室，先进行低真空的抽取，当溅射室的腔内气压达到4Pa以下时，再启动分子泵进行高真空的抽取；当溅射室内真空度达到预定值后，通入氩气，进行预溅射，以去除靶材表面的污染物；

(3)共溅射涂层

调节溅射室内的气压，设定中熵合金靶以及Al靶的溅射功率，进行共溅射涂层；溅射完成后，将构件随炉冷却至室温后取出；

(4)固溶处理

将涂层后的构件通过真空感应炉加热至1200℃后保温2h，然后进行淬火处理，使中熵合金涂层添加Al元素后所产生的过剩相溶解到固溶体中；

(5)时效处理

将步骤(4)所处理的构件通过真空感应炉加热至600℃后保温2～8h，随炉冷却，以析出铝基金属间化合物，实现对中熵合金涂层的强化。

2.根据权利要求1所述的一种中熵合金涂层的强化方法，其特征在于：所述构件选自钢制材料、铸铁类材料或其他有色金属类材料。

3.根据权利要求1所述的一种中熵合金涂层的强化方法，其特征在于：所述步骤(1)的清洗过程采用超声波依次进行无水乙醇清洗和等离子水清洗。

4.根据权利要求1所述的一种中熵合金涂层的强化方法，其特征在于：所述中熵合金靶选自CoCrNi合金靶、FeCoNi合金靶、CrFeNi合金靶、CrNiTi合金靶中的一种；所述Al靶的纯度大于99.9％。

5.根据权利要求1所述的一种中熵合金涂层的强化方法，其特征在于：步骤(2)中，预溅射时的溅射室内的真空度为7×10^-4Pa，预溅射的时间为10min。

6.根据权利要求1所述的一种中熵合金涂层的强化方法，其特征在于：步骤(3)中，溅射前的基体温度为100～500℃；溅射室内的气压调节至0.2～0.5Pa；中熵合金靶的溅射功率为100W，Al靶的溅射功率为20～100W；溅射时间为10～60min。

7.根据权利要求1所述的一种中熵合金涂层的强化方法，其特征在于：步骤(2)中，通入氩气的流量为50sccm。

8.根据权利要求1所述的一种中熵合金涂层的强化方法，其特征在于：固溶处理和时效处理的加热方式为表面加热。