[发明专利]一种医疗器械用高硬度TiTaCrMoNbNx高熵合金薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202210659181.3 | 申请日： | 2022-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN114941122A | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 李伟;邵国森 | 申请（专利权）人： | 上海锐畅医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/02;C22C30/00;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 申素霞 |
| 地址： | 201706 上海市青浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 医疗器械 硬度 titacrmonbnx 合金 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种医疗器械用高硬度TiTaCrMoNbNx高熵合金薄膜，其特征在于，所述TiTaCrMoNbNx高熵合金薄膜中N的原子百分比为0～60.55at.％，其余为等摩尔比的TiTaCrMoNb。
2.根据权利要求1所述的TiTaCrMoNbNx高熵合金薄膜，其特征在于，所述TiTaCrMoNbNx高熵合金薄膜的厚度为0.99～4.86μm。
3.权利要求1～2任一项所述的TiTaCrMoNbNx高熵合金薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
将基材依次进行抛光处理、超声清洗和离子清洗，得到清洗后的基材；
氩气-氮气气氛体系下，将TiTaCrMoNb靶通过磁控溅射在所述清洗后的基材表面进行沉积，得到所述TiTaCrMoNbNx高熵合金薄膜；
所述氩气-氮气气氛体系中氩气和氮气的流量比为25:0～25：30。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述超声清洗为依次进行酒精超声清洗和丙酮超声清洗；所述超声清洗的频率为15～30kHz。
5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述离子清洗的条件包括：气体为氩气，功率为200W，真空度为2～4Pa，离子轰击时间为10min。
6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述磁控溅射的条件包括：靶材由直流电源控制，工作气压为0.5Pa，薄膜溅射功率为200W，溅射时间为90min。
7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述氩气-氮气气氛体系中氩气和氮气的流速比为25:0、25:5、25:10、25:15、25:20、25:25或25：30。
8.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述基体为合金或单晶Si。
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