[发明专利]一种基坑阳角支护方法及基坑施工方法在审
| 申请号: | 202210653718.5 | 申请日: | 2022-06-10 |
| 公开(公告)号: | CN114922198A | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
| 发明(设计)人: | 种记鑫;魏焕卫;唐莹;郑晓;冯新绪;雷树立;张冬冬;罗威;陈娟 | 申请(专利权)人: | 济南轨道交通集团有限公司;山东建筑大学 |
| 主分类号: | E02D17/04 | 分类号: | E02D17/04;E02D17/02;E02D17/18;E02D5/18;E02D15/02;E02D15/08;E02D5/34 |
| 代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 马海波 |
| 地址: | 250014 山东省济南*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基坑 支护 方法 施工 | ||
本发明涉及一种基坑阳角支护方法及基坑支护方法,包括以下步骤:对基坑阳角位置处外侧的土体开挖支护坑,其中,支护坑以基坑阳角处的内侧围护结构作为坑壁,支护坑的其余坑壁采用多级放坡开挖,形成多级坡底;依次在每一级的坡底施工基坑阳角支护结构并进行回填,直至支护坑被回填至未开挖地表;其中,设定级坡底对应的基坑阳角支护结构施工完成后进行土体回填,直至回填至前一级坡底,采用本发明的支护方法对基坑阳角的支护效果好,安全性好。
技术领域
本发明涉及基坑支护结构施工技术领域,具体涉及一种基坑阳角支护方法及基坑施工方法。
背景技术
这里的陈述仅提供与本发明相关的背景技术,而不必然地构成现有技术。
随着建筑领域的发展,越来越多的建筑物往更高更深的方向建设,这就使得建筑基坑的面积与深度不断增加,基坑形状为适应城市发展的需要也呈多样化发展,在基坑支护过程中不可避免会形成基坑阳角,基坑阳角处会因坑角效应的影响而存在较大沉降,为支护结构沉降变形控制增加难度。
通常基坑的施工主要受基坑支护形式与基坑自身空间形状两种空间效应影响,且两种空间效应在叠加时,往往会给平面形状奇异的基坑施工带来极大的安全风险,如果处理不当还有可能带来经济损失,是基坑支护设计与施工中都需要重点关注的部分。目前针对基坑本身平面形状引起空间效应的研究较为匮乏,工程实践中更多的是利用类似的工程经验进行处理。
对于平面形状奇异的基坑而言,基坑阳角处通常为全支护结构的最大位移处,且由于土体各向异性等特性,暂时无法通过理论计算进行准确预测,仅能通过理论定性分析和工程实践经验进行判断。虽然基坑支护设计时会尽量减少基坑阳角的出现,但是由于诸多不利因素的存在,基坑阳角难以完全避免。若不考虑基坑阳角空间效应对支护结构变形的影响,会给基坑带来极大危险;若仅采取措施控制地表处基坑阳角效应,会引起基坑阳角深度方向上因空间效应而产生过大变形,甚至导致基坑坍塌;若对处理基坑阳角措施过于保守,会导致施工进度缓慢,增加工程造价。
现有的技术中,已有部分关于支护基坑阳角的研究。例如,申请号为202020686493.X的中国专利文献记载了一种基坑阳角的处理结构。该方法利用在基坑阳角处设置两道相平行的背拉梁,利用背拉梁使得基坑阳角的两侧自平衡,降低了基坑阳角处支护结构向基坑内的位移。特点是利用两道相平行的背拉梁平衡阳角处的位移,该方法相较于传统阳角支护方法具有较高可靠性,但是发明人发现,实质上该处理方式仅仅限制了基坑阳角最顶端的位移,对基坑阳角处深度方向上向坑内的位移并不会存在较为明显的控制作用。因此该方法仍无法对基坑阳角处的位移起到很好的限制作用。
综上所述,如何设计一种基坑阳角支护结构并具有较高的可行性,能够在阳角位置处限制一定深度范围内的地层及支护结构位移,是本领域技术人员亟需解决的问题。
发明内容
本发明的目的是为克服现有技术的不足,提供了一种基坑阳角支护方法,能够在阳角位置处限制一定深度范围内的地层及支护结构位移,保证了基坑施工的安全性。
为实现上述目的,本发明采用如下技术方案
本发明的实施例提供了一种基坑阳角支护方法,包括以下步骤:
对基坑阳角位置处外侧的土体开挖支护坑,其中,支护坑以基坑阳角处的内侧围护结构作为坑壁,支护坑的其余坑壁采用多级放坡开挖,形成多级坡底;
依次在每一级的坡底施工基坑阳角支护结构并进行回填,直至支护坑被回填至未开挖地表;
其中,设定级坡底对应的基坑阳角支护结构施工完成后进行土体回填,直至回填至前一级放坡坡底。
可选的,支护坑具有四个坑壁,基坑阳角处的内侧围护结构作为支护坑的两个坑壁,支护坑的其余两个坑壁采用放坡开挖,形成多级坡底。
可选的,对基坑阳角支护结构施工时,埋入土体的长度与伸出对应级坡度底面的长度比为1:2。
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