[发明专利]一种研磨防水装置及控制方法

权利要求书

1.一种研磨防水装置，应用于LCD表面研磨清洗，其特征在于，包括：研磨平台组件（1）、研磨组件（9）、X轴移动组件（6）、Y轴移动组件（2）、Z轴移动组件（10）、喷水组件（5），

所述研磨平台组件（1）设置在所述Y轴移动组件（2）上，所述Y轴移动组件（2）能够相对所述研磨平台组件（1）发生Y轴方向相对位移；

所述X轴移动组件（6）设置在所述Y轴移动组件（2）上，所述X轴移动组件（6）能够相对所述Y轴移动组件（2）发生X轴方向相对位移、所述Y轴移动组件（2）能够相对所述X轴移动组件（6）发生Y轴方向相对位移；

所述Z轴移动组件（10）设置在所述X轴移动组件（6）上，所述Z轴移动组件（10）能够相对所述X轴移动组件（6）发生Z轴方向相对升降位移；

所述研磨组件（9）设置在所述Z轴移动组件（10）上，该研磨组件（9）具有与研磨平台组件（1）配合的研磨状态；

所述喷水组件（5）设置在靠近所述研磨平台组件（1）的研磨状态所在处，用以向所述研磨组件（9）和所述研磨平台组件（1）喷水；

其中所述研磨组件（9）设置有防水罩（7），用以阻挡喷水进入所述研磨组件（9）内部。

2.根据权利要求1所述的一种研磨防水装置，其特征在于：

所述研磨组件（9）包括外罩（20），所述外罩（20）内设置有电机，所述外罩（20）下部设置有固定支座（19），所述固定支座（19）上设置有轴承（13）安装座（15），所述轴承（13）安装座（15）上设置有轴承（13），所述电机带动的研磨轴（14）设置在所述轴承（13）上，且所述研磨轴（14）贯穿所述轴承（13）与研磨盘（4）定位座（18）固定连接，所述研磨盘（4）定位座（18）上设置有研磨盘（4）；

所述防水罩（7）构设为环形壁体结构，其环形壁体包设在所述固定支座（19）至所述研磨盘（4）定位座（18）外侧，且与所述研磨盘（4）定位座（18）之间具有一间隙，该间隙以所述研磨盘（4）转动研磨时不与环形壁体发生摩擦为宜。

3.根据权利要求2所述的一种研磨防水装置，其特征在于：

所述研磨轴（14）上设置有防水盖（8），所述防水盖（8）固定设置在所述轴承（13）安装座（15）的靠近所述研磨定位座（18）侧，该防水盖（8）用以从靠近所述研磨定位座（18）侧覆盖所述轴承（13）。

4.根据权利要求3所述的一种研磨防水装置，其特征在于：

所述研磨轴（14）设置所述防水盖（8）靠近所述研磨定位座（18）侧设置有轴肩，所述轴肩与所述研磨轴（14）处构设成一凹槽状结构，所述防水盖（8）设置在该凹槽状结构处。

5.根据权利要求3所述的一种研磨防水装置，其特征在于：

所述防水盖（8）构设为环形片状体结构，由一个完整环形片、或至少两个弧形片组合而成。

6.根据权利要求3-5任一项所述的一种研磨防水装置，其特征在于：

所述防水盖（8）、所述轴承（13）安装座（15）、所述轴承（13）、所述研磨轴（14）之间构设形成一密闭腔室（12）；所述轴承（13）安装座（15）上设置有气孔（22），所述气孔（22）与所述密闭腔室（12）贯通，所述气孔（22）外部连接有供气管，所述供气管上设置有供气阀，该气孔（22）用以向密闭腔室（12）注入加压气体。

7.根据权利要求2所述的一种研磨防水装置，其特征在于：

所述研磨盘（4）定位座（18）上设置有磁铁（16），所述研磨盘（4）通过所述磁铁（16）吸附在所述研磨盘（4）定位座（18）上。

8.根据权利要求2所述的一种研磨防水装置，其特征在于：

所述研磨盘（4）定位座（18）上设置有定位销（17），所述研磨盘（4）通过所述定位销（17）固定在所述研磨盘（4）定位座（18）上。