[发明专利]一种偏心抛光机构有效
申请号: | 202210594841.4 | 申请日: | 2022-05-27 |
公开(公告)号: | CN114851056B | 公开(公告)日: | 2023-06-13 |
发明(设计)人: | 刘小平;郭克文;黎振宇 | 申请(专利权)人: | 湖南宇环精密制造有限公司 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B41/04;B24B49/00 |
代理公司: | 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 | 代理人: | 黄汉 |
地址: | 410000 湖南省长沙*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 偏心 抛光 机构 | ||
本发明公开了一种偏心抛光机构,包括连接板、偏心座、偏心轴和抛光盘,偏心座安装在连接板上,偏心轴通过轴承可转动的安装在偏心座上,抛光盘与所述偏心轴连接,偏心轴上设有磁体,连接板上设有导磁体,磁体和导磁体在相对转动时产生阻碍磁体和导磁体相对转动的安培力。该偏心抛光机构具有抛光效果好、稳定性好等优点。
技术领域
本发明涉及抛光设备技术领域,具体涉及一种偏心抛光机构。
背景技术
随着生活水平的提高,人们对物品的表面也有着很高的要求,因而需要对物品的表面进行抛光。传统的抛光方式是通过抛光机的抛光头高速旋转,对物体进行粗、精抛光(抛光耗材不同)。抛光机构主要有同心抛光机构和偏心抛光机构两种。同心抛光机构工作时,如果输出轴转速不变,同心轮上各点的线速度恒定,切削力强,能承受较大的抛光压力,但其缺点是抛光出的工件表面纹路较深且单一,后道工序去除不了前道工序的纹路,造成抛光工件良率低。偏心抛光机构克服了同心抛光机构这一缺陷。抛光盘在作偏心转动的同时,本身还作自转运动,这种“自转”与“公转”的共同作用,使得抛光过程中会产生揉动效果,能有效地清除抛光留下抛光纹路痕迹,使得抛光出的工件较之同心抛光机构,表面纹路均匀、细化,提高了产品的抛光良率。
如图1所示,现有的偏心抛光机构,抛光盘4通过偏心轴3安装在偏心座2上,偏心座2通过连接板1安装在抛光头的输出轴上,偏心轴3与偏心座2之间用轴承5连接,并用锁紧螺母15锁紧,偏心轴3可以自由旋转。偏心轴3的中心轴线与抛光头的输出轴的中心轴线之间设置偏心距,偏心距一般为2.5mm。抛光工件时,偏心座2跟抛光头的输出轴一起转动,轴承5的摩擦力驱动偏心轴3转动,从而带动抛光盘4自转。抛光盘4仅倚靠轴承5的摩擦力驱动自转,而轴承5的摩擦力比较小,在抛光盘4空转无负载时,自转速度可以升得很高,而一旦抛光盘4压上工件后,抛光盘4上的耗材与工件之间的摩擦力会远大于轴承的摩擦力,会使得抛光盘4自转速度迅速降低。耗材和工件之间的摩擦力与多个因素有关,这些因素包括工件的材质、耗材的材质、耗材贴紧工件的正压力、耗材与工件之间的接触面积等,当耗材与工件之间的摩擦力过大时,抛光盘4自转的速度过低,抛光效果难以达到理想状态。另一方面,如前所述有很多种因素都可能使得耗材与工件之间的摩擦力发生变化,而轴承5的摩擦力很小,因此耗材与工件之间的摩擦力的一点变化都会迅速引起抛光盘4自转速度的变化,导致工件在抛光过程中容易出现局部振纹或橘皮等缺陷,降低抛光良率。综上,现有的偏心抛光机构不能适应多种工况,而且抛光的稳定性不够。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有技术存在的不足,提供一种能适应多种工况、抛光效果好、稳定性好的的偏心抛光机构。
为解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:
一种偏心抛光机构,包括连接板、偏心座、偏心轴和抛光盘,所述偏心座安装在所述连接板上,所述偏心轴通过轴承可转动的安装在偏心座上,所述抛光盘与所述偏心轴连接,所述偏心轴上设有磁体,所述连接板上设有导磁体,所述磁体和导磁体在相对转动时产生阻碍磁体和导磁体相对转动的安培力。
上述的偏心抛光机构,优选的,所述磁体和导磁体沿所述偏心轴的中心轴线间隔设置。
上述的偏心抛光机构,优选的,所述磁体通过连接组件以可拆卸和可调节与所述导磁体距离的方式安装在所述偏心轴上。
上述的偏心抛光机构,优选的,所述连接组件包括螺栓和保护壳,所述保护壳具有开口朝向所述导磁体的第一沉孔,所述磁体安装在所述保护壳的第一沉孔中,所述磁体上设有用于埋设所述螺栓的通孔,所述保护壳上设有安装孔,所述螺栓穿过所述保护壳的安装孔将保护壳与所述偏心轴连接紧固,所述保护壳与所述偏心轴直接接触或者保护壳与所述偏心轴之间垫设有一片以上垫片。
上述的偏心抛光机构,优选的,所述磁体和导磁体均为圆形板,所述磁体和导磁体的中心轴线与所述偏心轴的中心轴线重合。
上述的偏心抛光机构,优选的,所述保护壳上设有用于套设在所述偏心轴上以对保护壳进行定位的定位凸环。
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