[发明专利]一种釉上彩天蓝釉陶瓷花瓶及其制备工艺

权利要求书

1.一种釉上彩天蓝釉陶瓷花瓶，其特征在于：包括形成有天蓝釉面的坯体、描绘在天蓝釉面上的彩绘图案和附着在彩绘图案上的透明保护釉；

天蓝釉由以下重量份的原料组成：方解石16-25份、皂石12-18份、水镁石8-15份、氧化镁2-5份、德化石英15-20份、高岭土8-12份、二氧化钛0.5-0.8份、氧化铜1.2-1.5份、氧化铁1-2份、氧化镧0.3-0.7份；

透明保护釉的化学组成按质量百分比具体如下：SiO₂：63.52％、Al₂O₃：12.57％、Na₂O：3.26％、K₂O：5.12％、CaO：7.86％、ZnO：1.76％、La₂O₃：0.32％、MgO：4.27％、B₂O₃：0.85％、TiO₂：0.47％。

2.根据权利要求1所述的一种釉上彩天蓝釉陶瓷花瓶，其特征在于：所述坯体由以下重量份的原料组成：白云石20-25份、钙长石10-15份、德化石英22-28份、高岭土10-16份、海泡石5-10份、锌白3-5份、氧化锆1-2份、锂辉石3-7份、红柱石3-5份、氧化镁2-4份、氧化铝1-3份。

3.根据权利要求1所述的一种釉上彩天蓝釉陶瓷花瓶，其特征在于：所述彩绘图案经彩绘颜料描绘在天蓝釉面上形成，彩绘颜料包括以下重量份的原料：颜料20-25份、石棉粉12-18份、萤石10-15份、硼酸5-10份、偏铝酸钠3-5份、氧化镁3-7、氧化镧1-2份。

4.一种釉上彩天蓝釉陶瓷花瓶的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一，按坯体、天蓝釉、透明釉的原料组成分别称重、破碎、混合、湿球磨分别制得泥浆、天蓝釉浆及透明保护釉浆；

步骤二，制备彩绘颜料；

步骤三，将步骤一制得的泥浆过筛、除铁后，制成坯体，待其表面干燥后，将步骤一制得的天蓝釉浆施覆在坯体表面，待天蓝釉浆干燥后，送入窑炉中，在1250-1280℃下，还原烧制得半成品；

步骤四，利用步骤二制得的彩绘颜料在半成品表面描绘彩绘图案，待其干燥后，将步骤一制得的透明保护釉浆湿覆在彩绘图案上；

步骤五，待透明保护釉浆干燥后，送入窑炉中，在980-1020℃下，素烧8-10h，得所述天蓝釉陶瓷花瓶。

5.根据权利要求4所述的一种釉上彩天蓝釉陶瓷花瓶的制备工艺，其特征在于：所述步骤三中，半成品的烧成具体控制如下：

低温阶段：窑炉由常温升至560-600℃，保温烧制1-2h；

氧化阶段：窑炉内继续升温至950-980℃，保温烧制4-6h；

还原阶段：窑炉内气氛转换为还原气氛，继续升温至1250-1280℃，保温烧制7-8h；

保温阶段：窑炉内继续保持还原气氛，保温烧制1-2h；

冷却阶段：窑炉内自然冷却至室温，冷却时间延长至12h以上。

6.根据权利要求5所述的一种釉上彩天蓝釉陶瓷花瓶的制备工艺，其特征在于：所述还原阶段中，窑炉内一氧化碳的浓度为4.8-5.2％，游离氧的浓度为1.0-1.2％。

7.根据权利要求5所述的一种釉上彩天蓝釉陶瓷花瓶的制备工艺，其特征在于：所述保温阶段中，窑炉内一氧化碳的浓度为2.1-2.4％，游离氧的浓度为0.8-1％。

8.根据权利要求4所述的一种釉上彩天蓝釉陶瓷花瓶的制备工艺，其特征在于：步骤五中，透明保护釉浆的烧成分为还原气氛，其中，一氧化碳的浓度为4.2-4.5％，游离氧的浓度为1-1.3％。

9.根据权利要求4所述的一种釉上彩天蓝釉陶瓷花瓶的制备工艺，其特征在于：所述天蓝釉浆的厚度为0.3-0.4mm，透明保护釉浆的厚度为0.2-0.3mm。