[发明专利]一种清洁装置在审
申请号: | 202210578257.X | 申请日: | 2022-05-25 |
公开(公告)号: | CN114887976A | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 万先进;边逸军;韦俊丞;李文超 | 申请(专利权)人: | 宁波芯丰精密科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B1/02;B08B13/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 梁佳强 |
地址: | 315400 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清洁 装置 | ||
本发明涉及芯片制造技术领域,公开了一种清洁装置。清洁装置包括转盘、清洁组件、驱动件和支撑组件。转盘的转动轴线沿第一方向延伸,待清洁基板能够固定在转盘上;清洁组件位于转盘沿第一方向的一侧,清洁组件包括清洁头和连接臂,清洁头设置在连接臂的一端并位于连接臂朝向转盘的一侧;驱动件连接于连接臂的另一端并能够驱动清洁组件沿第二方向移动;支撑组件包括滑轨和滑块,滑轨沿第二方向延伸,滑块与滑轨滑动配合,滑块连接于连接臂相背转盘的一侧,滑块与清洁头设置在连接臂的同一端。本发明减少连接臂的形变量,保证清洁装置的清洁效果和生产效率,也避免驱动件受到的压力过大而损坏,保证驱动件的耐用性,降低维护成本。
技术领域
本发明涉及芯片制造技术领域,尤其涉及一种清洁装置。
背景技术
在基板减薄工艺中,大量化学物质及基板的磨屑颗粒会附着在基板及其边缘斜角上。此类化学物质及磨屑颗粒如不清洗干净,将影响后续制程及芯片良率,为此需对基板进行清洁,以达到半导体制程洁净度的要求。清洁装置通常包括转盘、清洁臂和电缸。转盘的转轴水平设置,待清洁基板固定在转盘上,且转盘能够带动待清洁基板转动,设置在清洁臂一端的清洁头抵压在待清洁基板上,电缸连接于清洁臂的另一端并带动清洁头沿水平方向移动,以实现清洁工序。现有技术中,为了保证清洁效果,通常清洁头需要对待清洁基板施加一定的压力,清洁臂易发生弯曲变形,导致清洁头与待清洁基板之间产生缝隙,不能保证清洁效果,同时也降低了耐用性,增加了清洁装置的维护成本,而且待清洁基板施加的反作用力传递至电缸上,增加电缸损坏的风险。
基于此,亟需一种清洁装置用来解决如上提到的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种清洁装置,以减少连接臂的形变量,保证清洁装置的清洁效果和生产效率,也避免驱动件受到的压力过大而损坏,保证驱动件的耐用性,降低维护成本。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种清洁装置,包括:
转盘,所述转盘的转动轴线沿水平设置的第一方向延伸,待清洁基板能够固定在所述转盘上;
清洁组件,位于所述转盘沿所述第一方向的一侧,所述清洁组件包括清洁头和连接臂,所述清洁头设置在所述连接臂的一端并位于所述连接臂朝向所述转盘的一侧;
驱动件,连接于所述连接臂的另一端并能够驱动所述清洁组件沿水平设置的第二方向移动,所述第一方向与所述第二方向垂直;
支撑组件,包括滑轨和滑块,所述滑轨沿所述第二方向延伸,所述滑块与所述滑轨滑动连接,所述滑块连接于所述连接臂相背所述转盘的一侧,所述滑块与所述清洁头设置在所述连接臂的同一端。
作为一种清洁装置的可选技术方案,所述清洁装置还包括抵压组件,所述抵压组件包括抵压件和连接架,所述滑轨固定在所述连接架上,所述抵压件连接于所述连接臂与所述驱动件之间,所述抵压件能够驱动所述连接臂沿所述第一方向移动。
作为一种清洁装置的可选技术方案,所述抵压组件还包括导轨,所述导轨固定设置且沿所述第一方向延伸,所述连接架与所述导轨滑动配合。
作为一种清洁装置的可选技术方案,所述清洁组件还包括喷嘴,所述喷嘴设置在所述连接臂朝向所述转盘的一侧,所述喷嘴能够向所述待清洁基板喷出清洁液。
作为一种清洁装置的可选技术方案,所述喷嘴与所述清洁头沿所述第二方向排布。
作为一种清洁装置的可选技术方案,所述清洁组件还包括转动电机,所述转动电机连接于所述连接臂并能够驱动所述清洁头绕所述第一方向转动。
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