[发明专利]高分辨光场图像重建方法、装置、电子设备及存储介质在审
申请号: | 202210555644.1 | 申请日: | 2022-05-19 |
公开(公告)号: | CN115018702A | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 李晖;何燕成;张超 | 申请(专利权)人: | 武汉工程大学 |
主分类号: | G06T3/40 | 分类号: | G06T3/40;G06T5/00;G02F1/29 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 厉洋洋 |
地址: | 430000 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分辨 图像 重建 方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
1.一种高分辨光场图像重建方法,其特征在于,包括:
利用液晶微透镜阵列对目标场景获取不同聚焦位置下的光场图像;
对于每个所述光场图像,对所述光场图像进行信号恢复,得到所述光场图像对应的目标图像;
基于各个所述光场图像对应的目标图像,建立所述目标场景对应的高分辨光场图像。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于各个所述光场图像对应的目标图像,建立所述目标场景对应的高分辨光场图像,包括:
对各个所述目标图像进行去噪处理,得到去噪处理后的各个所述目标图像;
对于去噪处理后的每个所述目标图像,根据所述目标图像中各个像素点位置的像素值,计算所述目标图像中的每个像素点位置对应的像素视觉显著度,其中,所述像素视觉显著度用于表征像素点的视觉显著性;
计算去噪处理后的各个所述目标图像中的相同的像素点位置对应的像素视觉显著度的均值;
基于各个所述像素视觉显著度的均值,建立所述目标场景对应的高分辨光场图像。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述对各个所述目标图像进行去噪处理,得到去噪处理后的各个所述目标图像,包括:
对于每个所述目标图像,利用融合操作窗口将所述目标图像划分为多个像素块,对每个所述像素块分别进行双边滤波处理,得到去噪处理后的所述目标图像。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,对于去噪处理后的所述目标图像中的每个像素点位置,所述像素点位置对应的像素视觉显著度通过以下公式确定:
Pvi(x0,y0)=|Pdi(x0,y0)-meani(i,j)|
其中,(x0,y0)表示像素点位置,Pvi(x0,y0)表示像素点位置对应的像素视觉显著度,Pdi(x0,y0)表示像素点位置的像素值,meani(i,j)表示像素点位置对应的像素块的像素平均值,(i,j)表示像素块的尺寸。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对于每个所述光场图像,对所述光场图像进行信号恢复,得到所述光场图像对应的目标图像,包括:
对于每个所述光场图像,利用预先建立的测量矩阵对所述光场图像进行信号恢复,得到所述光场图像对应的目标图像,其中,所述测量矩阵用于表征光场图像与所述光场图像对应的目标图像之间的转换关系;
其中,对于每个所述光场图像,所述光场图像对应的目标图像通过以下公式确定:
P(i)=ΦX(i)
其中,P(i)表示光场图像,X(i)表示目标图像,Φ表示测量矩阵。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其特征在于,所述液晶微透镜阵列包括用于使液晶沿预定方向取向的衬底导电层,所述衬底导电层包含栅格结构的氧化锌薄膜。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述衬底导电层还包括玻璃衬底,所述衬底导电层通过以下方式制备:
利用脉冲激光沉积技术在所述玻璃衬底上制备氧化锌薄膜;
利用光刻刻蚀技术,将所述玻璃衬底上的氧化锌薄膜刻蚀成栅格结构,得到所述衬底导电层。
8.一种高分辨光场图像重建装置,其特征在于,包括:
获取模块,用于利用液晶微透镜阵列对目标场景获取不同聚焦位置下的光场图像;
处理模块,用于对于每个所述光场图像,对所述光场图像进行信号恢复,得到所述光场图像对应的目标图像;
重建模块,用于基于各个所述光场图像对应的目标图像,建立所述目标场景对应的高分辨光场图像。
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