[发明专利]一种低重稀土高矫顽力稀土钕铁硼永磁体的制备工艺

权利要求书

1.一种低重稀土高矫顽力稀土钕铁硼永磁体的制备工艺，其特征在于，所述制备工艺包括以下步骤：

(1)钕铁硼甩片制备：选取钕铁硼永磁体原料配比混合后放入真空速凝甩带炉中进行熔炼，熔炼完成后直接进行浇铸，制得厚度在0.20-0.30mm的甩带片状合金备用；

(2)重稀土合金体制备：采用真空感应熔炼炉制备重稀土合金铸锭，后对铸锭进行均化热处理，再风冷后表面抛光、外形加工制成溅射靶材备用；

(3)表面溅射处理：将上述步骤(2)中制成的溅射靶材使用磁控溅射的方式镀在步骤(1)的甩带片状合金上，得溅射后的混合材料备用，且混合材料中溅射靶材的重量占混合材料总重量的1-8％；

(4)氢破碎处理：将上述步骤(4)中的混合材料置于氢碎炉中进行氢破碎处理，饱和吸氢后不脱氢直接冷却出炉，得氢爆粉备用；

(5)气流磨处理：将上述步骤(4)中的氢爆粉置于气流磨粉机中进行磨粉处理，获得粒度分布为X10＝0.6-0.7μm，X50＝2.0-2.1μm，X90＝3.8-3.9μm的细粉备用；

(6)磁场成型：将上述步骤(5)中的细粉放入到氧含量小于10ppm的全密封的磁场成型压机中取向成型，得生胚备用；

(7)烧结：将上述步骤(6)中的生胚进行高温烧结处理，后冷却得烧结胚备用；

(8)三级时效热处理：将上述步骤(7)中的烧结胚进行三级时效热处理，后在氩气保护下风冷至30℃以下出炉获得烧结钕铁硼永磁体。

2.根据权利要求1所述的一种低重稀土高矫顽力稀土钕铁硼永磁体的制备工艺，其特征在于：所述步骤(1)中熔炼开始前真空度达到5.0E-2Pa，且熔炼温度为1490-1510℃，在浇铸过程中控制铜辊进水温度在10-15℃。

3.根据权利要求1所述的一种低重稀土高矫顽力稀土钕铁硼永磁体的制备工艺，其特征在于：所述步骤(2)中均匀化热处理的方式为将铸锭在真空或氩气保护下于600℃温度下处理3h，且风冷的方式为充入氩气进行风冷。

4.根据权利要求1所述的一种低重稀土高矫顽力稀土钕铁硼永磁体的制备工艺，其特征在于：所述步骤(4)中氢破碎的过程为抽真空使真空度达到5.0E-2Pa时充入氢气进行氢破碎，破碎过程中炉体温度≤80℃。

5.根据权利要求1所述的一种低重稀土高矫顽力稀土钕铁硼永磁体的制备工艺，其特征在于：所述步骤(5)磨粉过程中氧含量控制在0ppm以下，整个气流磨在氮气保护下操作，控制氮气进气温度在5-10℃，研磨室外冷却循环水温度在5-10℃之间。

6.根据权利要求1所述的一种低重稀土高矫顽力稀土钕铁硼永磁体的制备工艺，其特征在于：所述步骤(6)中磁场成型的磁场强度为2.0T，成型的压坯密度为4.5±0.5g/cm³。

7.根据权利要求1所述的一种低重稀土高矫顽力稀土钕铁硼永磁体的制备工艺，其特征在于：所述步骤(7)中烧结方式为真空烧结，且烧结温度为1050℃-1080℃，保温时间为120min，冷却方式为在氩气保护下风冷至30℃以下出炉。

8.根据权利要求1所述的一种低重稀土高矫顽力稀土钕铁硼永磁体的制备工艺，其特征在于：所述步骤(7)中烧结方式为在放电等离子烧结炉中进行烧结，烧结温度为900-1000℃，保温5-7min，施加压力为150-200MPa。

9.根据权利要求1所述的一种低重稀土高矫顽力稀土钕铁硼永磁体的制备工艺，其特征在于：所述步骤(8)中三级时效热处理为将烧结胚升温至850-950℃的热处理温度，保温1-2h，保温完成后风冷至100℃以下后升温至第二步热处理温度490-540℃，保温2-4h，保温完成后风冷至100℃以下后升温至第三步热处理温度450-500℃，保温2-4h。

10.根据权利要求1所述的一种低重稀土高矫顽力稀土钕铁硼永磁体的制备工艺，其特征在于：所述步骤(8)中三级时效热处理为将烧结胚放入真空热处理炉升温至840-870℃的热处理温度，保温1-2h，磁场强度2.0T-3.0T，保温完成后风冷至100℃以下后升温至第二步热处理温度510-520℃，保温2-4h，磁场强度1.5-2.5，保温完成后风冷至100℃以下后升温至第三步热处理温度480-490℃，保温2-4h，磁场强度0.5-1.0T。