[发明专利]一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂及工艺

权利要求书

1.一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,其特征在于，以全部组分为100质量份计，由以下质量份的原料制成：

余量是水。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,其特征在于，所述碱性物质为25份。

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,其特征在于，所述四硼酸钠为9份。

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,其特征在于，所述乙二胺四乙酸二钠为10份。

5.根据权利要求1所述的一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,其特征在于，所述聚氧乙烯醚为7份。

6.根据权利要求1所述的一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂,其特征在于，所述氯酸盐选自氯酸钾。

7.如权利要求1-6任一项所述的一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂的制备方法,其特征在于，按照配方配置原料，并混合均匀。

8.如权利要求1-6任一项所述的一种陶瓷盖板的抛光粉清洗剂的应用工艺，其特征在于，包括以下步骤：

(1)使用槽式超声波机台，按照配方配置原料，并混合均匀，温度在70-80℃，20％配比使用；

(2)将待清洗的陶瓷盖板浸泡清洗2min；

(3)取出陶瓷盖板后，使用纯水对陶瓷盖板进行清洗，烘干；

(4)清洗效果以单槽清洗100pcs陶瓷盖板，对清洗后的陶瓷表面脏污的残留情况进行检验。

9.如权利要求1-6任一项所述的抛光粉清洗剂或权利要求8所述的应用工艺在手机或者手机盖板外观处理中的应用。