[发明专利]一种镭射膜表面涂布系统

说明书

本发明公开一种镭射膜表面涂布系统，涉及镭射膜生产设备，其技术方案要点是：包括涂布辊以及导辊组件，所述导辊组件用于传导输送镭射膜，镭射膜在输送过程中两侧经过涂布辊的外周并相互接触，所述涂布辊的旋转方向与镭射膜的输送方向相反；所述涂布辊用于在接触位置涂布镭射膜，所述涂布辊与镭射膜的输送方向倾斜。本发明通过采用差速旋转的方式，能够提高对薄膜表面的试剂涂布效率，提高表面涂布的完整性和均匀性。

技术领域

本发明涉及镭射膜生产设备，更具体地说，它涉及一种镭射膜表面涂布系统。

背景技术

镭射膜在使用过程中，需要根据不同的使用环境和使用要求，在镭射膜的表面涂布离型层、粘结层或者其他功能的试剂；待涂布的试剂，通过涂布设备，在膜体的表面进行涂布加工，在膜的表面形成所需的涂层，涂布过程中，需要确保膜体的表面被完全覆盖，方能达到稳定的涂布层的性能。

目前的涂布设备往往采用附着试剂的辊体对膜体的表面进行涂布，涂布过程中，膜顺着辊组件的导向和输送，实现膜的输送。输送过程中，膜体绕经涂布辊，涂布辊与膜体实现同步转动，通过涂布辊与膜体之间的相互接触从而实现膜体表面的试剂涂布。由于涂布辊与膜体之间同步运动，因此涂布辊与膜体表面的接触位置仅产生相互挤压接触，仅通过相对静态挤压的接触，可能无法达到完整涂布的效果，在涂布过程中可能存在局部涂布的缺失的情况。

为了提高涂布的效果，往往需要采用多组涂布辊，进行重复涂布的方式才能够实现，浪费试剂材料，而且影响生产的经济效益。

因此需要提出一种新的方案来解决这个问题。

发明内容

本发明的目的在于解决上述问题而提供一种镭射膜表面涂布系统，通过采用差速旋转涂布的方式，能够提高表面涂布的完整性和均匀性。

本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种镭射膜表面涂布系统，包括涂布辊以及导辊组件，所述导辊组件用于传导输送镭射膜，镭射膜在输送过程中两侧经过涂布辊的外周并相互接触，所述涂布辊的旋转方向与镭射膜的输送方向相反；所述涂布辊用于在接触位置涂布镭射膜，所述涂布辊与镭射膜的输送方向倾斜。

本发明进一步设置为，所述导辊组件包括两个上导辊和下导辊，两个上导辊平行等高，下导辊位于两个上导辊之间的下侧位置，镭射膜绕过两个上导辊和下导辊，并在上导辊和下导辊之间形成涂布间隙；所述涂布辊设置在涂布间隙内，且两端上下倾斜。

本发明进一步设置为，涂布间隙两侧的镭射膜平行，且宽度与涂布辊的外径一致；所述涂布辊与涂布间隙两侧的镭射膜均平行。

本发明进一步设置为，所述导辊组件的两侧均设置有纠偏装置。

本发明进一步设置为，所述涂布辊的上侧设置有匀料辊，所述匀料辊与涂布辊平行，且外周周面相抵；所述匀料辊和涂布辊的两端均通过旋转座旋转支撑，并保持同步倾斜。

本发明进一步设置为，所述匀料辊位于涂布间隙内，且匀料辊的外径较涂布间隙的宽度小；涂料辊的外周一侧与涂布间隙的输出一侧的镭射膜接触。

本发明进一步设置为，所述涂布辊包括内辊体和外辊体，所述外辊体套设于内辊体外，内辊体中空并在外周开设若干通孔一；所述外辊体上开设若干孔洞。

本发明进一步设置为，所述外辊体的中间设置环形腔，外辊体上的孔洞包括外辊体内层的通孔二和外辊体外层的通孔三；所述通孔二与通孔一位置一一对应。

本发明进一步设置为，所述外辊体转动连接于内管体外周，并通过外辊体两端的限位机构实现转动角度转动限位；所述限位机构包括开设在外辊体内周的环形的限位腔，所述限位腔的内周固定有限位块二，所述外辊体外周对应于限位块二的两侧固定连接有限位块一，所述限位块一与限位块二之间弹性抵压有限位弹簧；所述外辊体内层上的通孔二的宽度较内辊体上的通孔一大，所述外辊体相对内辊体转动后，通孔一、通孔二部分错位。