[发明专利]一种纳米复合耐腐蚀涂层及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种纳米复合耐腐蚀涂层，其特征在于，所述纳米复合耐腐蚀涂层由紧固件基底表面至外依次为共混层、连接层、耐腐蚀层和耐点蚀层，所述共混层为Cr与紧固件基底金属混合的共混层，连接层为Cr-CrN，耐腐蚀层为CrN/(AlCrNbSiTi)Nx/MoN，耐点蚀层为AlCrSiVOx，其中x为0.1～0.5。

2.根据权利要求1所述纳米复合耐腐蚀涂层，其特征在于，所述共混层的厚度为30～50nm。

3.根据权利要求1所述纳米复合耐腐蚀涂层，其特征在于，所述连接层的厚度为100～500nm。

4.根据权利要求1所述纳米复合耐腐蚀涂层，其特征在于，所述耐腐蚀层的厚度为3～5μm。

5.根据权利要求1所述纳米复合耐腐蚀涂层，其特征在于，所述耐点蚀层的厚度为2～3μm。

6.权利要求1～5任一所述纳米复合耐腐蚀涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1.对工件进行等离子刻蚀后，利用等离子体浸没离子注入，结合磁控溅射系统，在惰性气体氛围下，打开Cr靶，将Cr离子注入工件基底表面，形成共混层；

S2.通入Ar/N₂混合气体，开启偏电压，在共混层上沉积Cr-CrN连接层；

S3.打开AlCrNbSiTi合金靶、Mo靶，持续通入Ar/N₂混合气体，在连接层上沉积耐腐蚀层CrN/(AlCrNbSiTi)Nx/MoN；

S4.通入O₂、Ar，停止通入N₂，打开AlCrSiV合金靶，关掉Cr靶、Mo靶和AlCrNbSiTi合金靶，在耐腐蚀层上沉积AlCrSiVOx耐点蚀层。

7.根据权利要求6所述制备方法，其特征在于，在步骤S3中，所述AlCrNbSiTi合金靶中各元素含量均等。

8.根据权利要求6所述制备方法，其特征在于，步骤S4中，所述AlCrSiV合金靶中各元素含量均等。

9.根据权利要求6所述制备方法，其特征在于，在步骤S2中，所述偏电压为50～100V，占空比为60～90％。

10.权利要求1～5任一所述纳米复合耐腐蚀涂层在制备紧固件中的应用。