[发明专利]一种基于边界逆设计的任意分光比光耦合器的设计方法有效
申请号: | 202210496318.8 | 申请日: | 2022-05-09 |
公开(公告)号: | CN114967120B | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 田野;廖俊鹏;张晓伟;杨子荣;康哲 | 申请(专利权)人: | 宁波大学 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B6/26 |
代理公司: | 宁波奥圣专利代理有限公司 33226 | 代理人: | 何仲 |
地址: | 315211 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 边界 设计 任意 分光 耦合器 方法 | ||
1.一种基于边界逆设计的任意分光比光耦合器的设计方法,其特征在于包括以下步骤:
(1)设计光耦合器的初始结构为从左到右依次包括一个输入波导、一个连接输入和输出波导的耦合器以及两个输出波导;
(2)建立平面坐标系,在所述的连接输入和输出波导的耦合器上、下边界处各插入若干个离散边界优化点x;
(3)定义品质因数表示为两个输出波导处的横电基模的归一化功率之和,如下所示:FOM=∑FOMi(i=1,2),其中FOM1和FOM2相应别为上下两个输出波导横截面S处的横电基模(TE0)的归一化功率,在软件中直接测得;
(4)将光从输入波导沿x轴传输至上、下两个输出波导,利用三维时域有限差分法对耦合器进行第一次正向传输模拟,能够得到优化点x处光场Eold(x);
(5)将输入波导处的初始光源置于上方输出波导沿y轴的横截面S上,逆向传输至优化点x,利用三维时域有限差分法对耦合器进行第二次逆向传输模拟,得到优化点x处的光场E1adj(x);将输入波导处的初始光源置于下方输出波导沿y轴的横截面S上,逆向传输至优化点x,利用三维时域有限差分法对耦合器进行第三次的逆向传输模拟,得到优化点x处的光场E2adj(x);
(6)根据三次的模拟结果,计算耦合器上、下两个输出端口对应的品质因数变化ΔFOM1和ΔFOM2,通过分析得到ΔFOM1和ΔFOM2与所有边界优化点x的关系,计算公式如下:ΔFOM1=Δε(x)Eold(x)E1adj(x),ΔFOM2=Δε(x)Eold(x)E2adj(x),其中Δε(x)是优化点x在y轴上的位置发生变化后引起的介电常数的微小变化;Eold(x)是第一次正向传输模拟时得到的优化点x处光场;E1adj(x)是第二次逆向传输模拟时,光源在上方输出波导逆向传输至优化点x处的场;E2adj(x)是第三次逆向传输模拟时,光源在下方输出波导逆向传输至优化点x处的场;
(7)通过不断地调整优化点x在y轴方向上的位置来对耦合器进行边界形状优化,具体为在Python编程语言中,利用步骤(6)计算公式对若干个边界优化点x在y轴上的位置进行迭代计算,直至相邻两次迭代间ΔFOM1和ΔFOM2均小于1×10-5,且上下两个输出端口对应的品质因数FOM1和FOM2之比达到所需分光比的光耦合器,总品质因数FOM趋近于1,即获得所需分光比的光耦合器。
2.根据权利要求1所述的一种基于边界逆设计的任意分光比光耦合器的设计方法,其特征在于:所述步骤(1)中的光耦合器位于包层内部,被所述的包层完全包裹住,所述的包层的材料为二氧化硅。
3.根据权利要求1所述的一种基于边界逆设计的任意分光比光耦合器的设计方法,其特征在于:所述步骤(1)中的输入波导、连接输入波导和输出波导的耦合器以及两个输出波导的材料均为硅,两个输出波导的宽度相等且两个输出波导的长度相等。
4.根据权利要求1所述的一种基于边界逆设计的任意分光比光耦合器的设计方法,其特征在于:所述的输入波导和所述的输出波导的宽度均为500nm,上下两个所述的输出波导之间的间隙为1μm,所述的输入波导、所述的输出波导和所述的耦合器的厚度均为220nm。
5.一种权利要求1所述的设计方法设计的分光比为1:2光耦合器。
6.一种权利要求1所述的设计方法设计的分光比为1:4光耦合器。
7.一种权利要求1所述的设计方法设计的分光比为1:8光耦合器。
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