[发明专利]显示面板及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202210485218.5 申请日: 2022-05-06
公开(公告)号: CN114911092A 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 罗成志 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/13
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杨瑞
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括阵列设置的多个子像素单元;所述子像素单元包括:

衬底;

层间介质层,设置在所述衬底上;

第一导电层,设置在所述层间介质层上;以及

第二导电层,绝缘设置在所述第一导电层上,所述第一导电层与所述第二导电层形成控制所述子像素单元发光的电场;

其中,在所述显示面板的出光方向上,不同颜色的所述子像素单元的所述层间介质层的厚度不同。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述子像素单元至少包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元;

其中,在所述显示面板的出光方向上,所述红色子像素单元、所述绿色子像素单元和所述蓝色子像素单元的所述层间介质层的厚度逐渐增大。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,在所述显示面板的出光方向上,所述红色子像素单元的所述层间介质层的厚度为所述绿色子像素单元的所述层间介质层的厚度为以及所述蓝色子像素单元的所述层间介质层的厚度为

4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,在所述显示面板的出光方向上,所述红色子像素单元、所述绿色子像素单元和所述蓝色子像素单元的所述第一导电层的厚度逐渐减小。

5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,在所述显示面板的出光方向上,所述红色子像素单元的所述第一导电层的厚度为所述绿色子像素单元的所述第一导电层的厚度为以及所述蓝色子像素单元的所述第一导电层的厚度为

6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述子像素单元还包括设置于所述衬底与所述第一导电层之间的薄膜晶体管,所述第一导电层与公共电压端电性连接,所述第二导电层与所述薄膜晶体管的源极或漏极电性连接。

7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述子像素单元还包括设置于所述第一导电层与所述第二导电层之间的钝化层;

其中,所述钝化层覆盖所述第一导电层的表面,以及所述第一导电层在所述钝化层上的正投影位于所述钝化层内。

8.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:

提供一衬底;

在所述衬底上形成多个子像素单元的层间介质层,并使不同颜色的子像素单元的所述层间介质层的厚度不同;

在所述层间介质层上形成第一导电层;

在所述第一导电层上形成与所述第一导电层绝缘的第二导电层,并使所述第一导电层与所述第二导电层之间形成控制子像素单元发光的电场。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述层间介质层上形成第一导电层的步骤包括:

在所述层间介质层上形成整面的第一导电膜层;

在所述第一层导电膜层上形成图案化的第一牺牲层;

在所述第一牺牲层上形成整面的第二层导电膜层;

在所述第二导电膜层上形成图案化的第二牺牲层,并使所述第二牺牲层与所述第一牺牲层在所述衬底上的正投影不重合;

在所述第二牺牲层上整面形成第三导电膜层;

在所述第三导电膜层上形成光阻,并使所述光阻在所述衬底上的正投影与所述第一牺牲层和所述第二牺牲层在所述衬底上的正投影不重合;

去除所述光阻、所述第一牺牲层和所述第二牺牲层,以形成三个不同颜色的子像素单元的所述第一导电层。

10.一种显示装置,其特征在于,包括背光模组和如权利要求1至7任一项所述的显示面板;

其中,所述显示面板包括阵列基板、彩膜基板和设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层,所述背光模组设置于所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210485218.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top