[发明专利]一种波前光刻方法与系统

权利要求书

1.一种波前光刻方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、将波前信息分解成若干个子波前信息；

S2、采用宏像素来逐个分解、编码并光刻输出具有消散斑、去高斯分布的子波前信息，宏像素单元内包含子波前信息的振幅和相位信息。

2.根据权利要求1所述的一种波前光刻方法，其特征在于，S2包括：

S21、通过波前光刻系统的物光和参考光的干涉逐个记录在感光材料上；

S22、通过物光的刷新及参考光的变换实现波前信息的调制；

S23、在限带的消散斑及去高斯的照明光场下利用衍射反演计算将所述子波前的振幅和相位信息编码为对应的振幅或相位透过率分布图；

S24、将所述振幅或相位透过率分布图输入波前光刻系统的物光波前子系统中的空间光调制器，在物光束的照明下，所述分布图通过衍射再现其编码的子波前信息；

S25、再现的子波前信息与所述波前光刻系统的参考光波前子系统中的参考光干涉形成宏像素。

3.根据权利要求2所述的一种波前光刻方法，其特征在于，所述衍射反演计算方法包括全息计算、迭代、模拟退火或遗传算法的优化算法。

4.一种波前光刻系统，适用于如权利要求1至3任一项所述的一种波前光刻方法，其特征在于，包括照明子系统、物光波前子系统、参考光波前子系统、运动子系统和控制子系统，照明子系统包括可转向分光器件；物光波前子系统包括衍射器件，衍射器件连接有合束棱镜，合束棱镜连接有空间光调制器，空间光调制器连接有傅里叶变换透镜，空间光调制器位于傅里叶变换透镜的输入面上，衍射器件在空间光调制器所在平面和傅里叶变换透镜的输出面上形成消散斑、去高斯的光场分布；参考光波前子系统包括第一路参考光光路，用于对应第一2π立体角空间；第二路参考光光路，用于对应第二2π立体角空间；第一路参考光光路及第二路参考光光路均设有扫描振镜，扫描振镜连接有扫描透镜；第一路参考光光路中扫描透镜连接有傅立叶变换透镜，第二路参考光光路中扫描透镜连接有汇聚透镜。

5.根据权利要求4所述的一种波前光刻系统，其特征在于，物光波前子系统还包括对傅里叶变换透镜的输出面进行约束的视场光阑和对所述傅里叶变换透镜的输出面上的光场进行微缩成像的微缩成像光路。

6.根据权利要求4或5所述的一种波前光刻系统，其特征在于，物光波前子系统还包括自动聚焦光路和实时监测光路。

7.根据权利要求6所述的一种波前光刻系统，其特征在于，运动子系统包括：二维平移台，二维平移台位于傅里叶变换透镜输出面后；与扫描振镜连接的扫描振镜驱动器，与可转向分光器件连接的转向电机；控制子系统分别与照明子系统、物光波前子系统、参考光波子系统和运动子系统连接，用于协调控制连续激光器的开关和运动子系统的启停运动。