[发明专利]一种往复式双面高真空卷绕镀膜机在审
| 申请号: | 202210481979.3 | 申请日: | 2022-05-05 |
| 公开(公告)号: | CN114752913A | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
| 发明(设计)人: | 林正亮 | 申请(专利权)人: | 温岭市倍福机械设备制造有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 浙江专橙律师事务所 33313 | 代理人: | 蒋诚吏 |
| 地址: | 317500 浙江省台州市温*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 往复 双面 真空 卷绕 镀膜 | ||
1.一种往复式双面高真空卷绕镀膜机,其特征在于,包括卷绕系统、蒸发系统、真空系统、冷温媒机组系统和自动控制系统;
所述的卷绕系统由两对称设置的摆架、两对称设置的收放卷装置、两个蒸镀鼓、三根张力辊(7)、若干组展平辊(8)、若干组固定随动辊(9),以及一组可移动的移动随动辊(10)组成,所述的卷绕系统还包括有等离子源处理装置(11)、涡电流检测装置(12)、偏压装置和方阻测量装置,两对称设置的摆架分别为摆架一(3)和摆架二(4),两对称设置的收放卷装置分别为收放卷装置一(1)和收放卷装置二(2),两所述蒸镀鼓分别为蒸镀鼓一(5)和蒸镀鼓二(6),所述的等离子源处理装置(11)用于清洁活化基膜和对镀好的膜进行离子处理,所述的涡电流检测装置(12)用于对镀层厚度的在线检测,所述的偏压装置能够使基膜吸附在蒸镀鼓表面上,所述的方阻测量装置用于对镀层的厚度进行检测以及用于卷绕速度的反馈,基膜依次沿经收放卷装置一(1)、摆架一(3)、展平辊(8)、张力辊(7)、涡电流检测装置(12)、等离子源处理装置(11)、固定随动辊(9)进入蒸镀鼓一(5)进行基膜一面的蒸镀,再通过固定随动辊(9)、张力辊(7)、展平辊(8)、移动随动辊(10)、涡电流检测装置(12)、等离子源处理装置(11)、固定随动辊(9)、张力辊(7)、固定随动辊(9)进入蒸镀鼓二(6)进行基膜另一面的蒸镀,再经过固定随动辊(9)、等离子源处理装置(11)和涡电流检测装置(12),通过摆架二(4)及收放卷装置二(2)将镀膜收起,收放卷装置二(2)将镀膜重新放出并再次蒸镀,实现连续往复多次蒸镀的目的;
所述的蒸发系统包括蒸发舟(14)、单独送丝装置和蒸发围罩(13),相邻蒸发舟(14)之间形成蒸发舟(14)距离d;
所述的真空系统由旋片泵、罗茨泵、扩散泵、分子泵和冷凝泵组成,所述的真空系统还包括了空气补集装置。
2.根据权利要求1所述的一种往复式双面高真空卷绕镀膜机,其特征在于,所述的蒸镀鼓一(5)和蒸镀鼓二(6)表面均喷有陶瓷。
3.根据权利要求1所述的一种往复式双面高真空卷绕镀膜机,其特征在于,相邻所述蒸发舟(14)沿竖直方向交错排布。
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