[发明专利]一种2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202210449510.1 | 申请日： | 2022-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN114933595A | 公开（公告）日： | 2022-08-23 |
| 发明（设计）人： | 王路;孙浩 | 申请（专利权）人： | 长春工业大学 |
| 主分类号： | C07D413/10 | 分类号： | C07D413/10;C07D263/57;C07D413/04;C07D417/04;C07D417/10;C09K11/06 |
| 代理公司： | 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 | 代理人： | 李外 |
| 地址： | 130000 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 苯基 噁唑多 刺激 响应 荧光 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料，其特征在于，结构式如式1或2所示：
其中R1选自吲哚、咔唑、9，10-二氢蒽、酚噻嗪、或酚噁嗪类基团；R2选自咔唑、9，10-二氢蒽、酚噻嗪、酚噁嗪或三苯胺类基团。
2.根据权利要求1所述的一种2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料，其特征在于，所述的R1中吲哚类基团如下：
所述的R1中酚噁嗪类基团如下：
所述的R1中的酚噻嗪类基团如下：
所述的R1中的咔唑类基团如下：
所述的R1中的9，10-二氢蒽类基团如下：
3.根据权利要求1所述的一种2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料，其特征在于，所述的R2中三苯胺类基团如下：
所述的R2中酚噁嗪类基团如下：
所述的R2中酚噻嗪类基团如下：
所述的R2中咔唑类基团如下：
所述的R2中9，10-二氢蒽类基团如下：
4.根据权利要求1所述的一种2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料，其特征在于，所述的2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料，结构式如下:
5.根据权利要求1所述的一种2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料的制备方法，其特征在于，包括：
将式a所示的化合物和含有R1的化合物进行Heck偶联反应，得到式1所示的2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料；
或者将式b所示的化合物和含有R2的化合物进行Heck偶联反应，得到式2所示的2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料：
式a所示的化合物和式b所示的化合物中，X选为卤素。
6.根据权利要求5所述的一种2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料的制备方法，其特征在于，所述的Heck偶联反应的反应温度为100-110℃，反应时间为12-24h。
7.根据权利要求5所述的一种2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料的制备方法，其特征在于，所述的式a所示的化合物和含有R1的化合物的摩尔比为1:(1.1-2)。
8.根据权利要求5所述的一种2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料的制备方法，其特征在于，式b所示的化合物和含有R2的化合物的摩尔比为1:(1.1-2)。
9.根据权利要求5所述的一种2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料的制备方法，其特征在于，所述的Heck偶联反应过程中加入钯配合物、碱和溶剂。
10.根据权利要求5所述的一种2-苯基苯并噁唑多刺激响应荧光材料的制备方法，其特征在于，所述的钯配合物为醋酸钯，碱为无水K2CO3，溶剂为甲苯。
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