[发明专利]实现宽色域反射颜色调制的液晶超表面器件及制备方法有效
申请号: | 202210436656.2 | 申请日: | 2022-04-25 |
公开(公告)号: | CN114545673B | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 霍德旺;李国强 | 申请(专利权)人: | 之江实验室 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1337 |
代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 奚丽萍 |
地址: | 310023 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 实现 宽色域 反射 颜色 调制 液晶 表面 器件 制备 方法 | ||
1.一种实现宽色域反射颜色调制的液晶超表面器件,包括液晶盒与灌注在液晶盒内液晶,其特征在于:所述液晶盒由超表面器件和ITO导电玻璃作为基底组成,所述超表面器件和ITO导电玻璃的内壁上设有光取向薄层,所述超表面器件内壁上的光取向薄层与ITO导电玻璃内壁上的光取向薄层的光取向方向相互垂直;所述液晶盒的基底上连接有导线;所述超表面器件包括ITO导电玻璃基底、透明材料薄层和微纳结构,所述微纳结构之间的间隙中设有液晶,用于液晶在超表面附近的折射率调制实现宽色域的颜色调制;所述ITO导电玻璃基底的顶面设有透明材料薄层,所述透明材料薄层的顶面设有若干个微纳结构,所述微纳结构包括透明材料层和金属层,所述金属层位于所述透明材料层的上方,所述光取向薄层位于微纳结构的上方,所述透明材料层的厚度大于所述光取向薄层的厚度。
2.如权利要求1所述的一种实现宽色域反射颜色调制的液晶超表面器件,其特征在于:所述透明材料薄层的材料为SiO2、氟化镁或PMMA、PDMS;所述透明材料层的材料为SiO2、氟化镁或PMMA、PDMS;所述金属层的材料为铝或金、银。
3.如权利要求2所述的一种实现宽色域反射颜色调制的液晶超表面器件,其特征在于:所述透明材料薄层的材料为SiO2;所述透明材料层的材料为SiO2,所述金属层的材料为铝,所述透明材料薄层的厚度为40nm,所述透明材料层的厚度为100nm,所述金属层的厚度为80nm,所述光取向薄层的厚度为15nm。
4.如权利要求1所述的一种实现宽色域反射颜色调制的液晶超表面器件,其特征在于:所述液晶盒由超表面器件和ITO导电玻璃通过二氧化硅微球和紫外固化光学胶的混合物粘合而成。
5.如权利要求1所述的一种实现宽色域反射颜色调制的液晶超表面器件,其特征在于:所述液晶采用LCM1107液晶。
6.一种实现宽色域反射颜色调制的液晶超表面器件的制备方法,其特征在于:具体包括如下步骤:
S1、制备超表面器件;
S11、取ITO导电玻璃作为基底,对其进行清洗;
S12、在清洗后的ITO导电玻璃基底上制备微纳结构;
步骤S12具体包括如下子步骤:
S121、在ITO导电玻璃基底上进行透明材料沉积;
S122、对完成步骤S121的ITO导电玻璃基底进行金属材料沉积;
S123、对完成步骤S122的ITO导电玻璃基底进行光刻胶的旋涂,并利用电子束曝光;
S124、对完成步骤S123的ITO导电玻璃基底进行光刻胶的刻蚀;
S125、对完成步骤S124的ITO导电玻璃基底进行金属材料的刻蚀;
S126、对完成步骤S125的ITO导电玻璃基底进行透明材料的刻蚀;
S127、对完成步骤S126的ITO导电玻璃基底进行残余光刻胶的去除;
S2、取ITO导电玻璃和步骤S1的超表面器件,分别在ITO导电玻璃和超表面器件的内壁上旋涂光取向薄层,并进行光取向薄层的取向;
S22、取ITO导电玻璃和步骤S1的超表面器件进行清洗,并使用等离子清洗机处理,形成亲水表面;
S23、将步骤S21的光取向溶液旋涂至完成S22的ITO导电玻璃和超表面器件上,形成光取向薄层;
S24、将完成步骤S23的ITO导电玻璃和超表面器件使用偏振光照射,使光取向薄层实现取向;
S3、取步骤S2中旋涂光取向薄层的ITO导电玻璃和超表面器件作为基底,制作液晶盒,在液晶盒中填充液晶,使液晶充分的进入到液晶盒中,使液晶进入微纳结构之间的间隙中,用于液晶在超表面附近的折射率调制实现宽色域的颜色调制,得到液晶超表面器件。
7.如权利要求6所述的一种实现宽色域反射颜色调制的液晶超表面器件的制备方法,其特征在于,所述透明材料为SiO2、氟化镁或PMMA、PDMS,所述金属材料为铝或金、银。
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