[发明专利]外延生长装置在审

专利信息
申请号: 202210428945.8 申请日: 2022-04-22
公开(公告)号: CN114855271A 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 王树林;曹建伟 申请(专利权)人: 浙江求是半导体设备有限公司
主分类号: C30B25/12 分类号: C30B25/12;C30B25/14;C30B25/16;C30B25/08
代理公司: 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 代理人: 高礼强
地址: 311100 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 外延 生长 装置
【权利要求书】:

1.一种外延生长装置,其特征在于,包括炉体(110),所述炉体(110)设有反应腔(111),所述反应腔(111)内分别设有水平设置的第一反应基座(120)和第二反应基座(130),所述第一反应基座(120)和所述第二反应基座(130)沿着水平方向间隔设置;所述炉体(110)还设有分别连通所述反应腔(111)的第一进气部(112)、第二进气部(113)和出气部(114),所述第一反应基座(120)设于所述第一进气部(112)和所述出气部(114)之间,所述第二反应基座(130)设于所述第二进气部(113)和所述出气部(114)之间;反应介质能够分别通过所述第一进气部(112)和所述第二进气部(113)进入所述反应腔(111),并通过所述出气部(114)离开所述反应腔(111)。

2.根据权利要求1所述的外延生长装置,其特征在于,所述第一反应基座(120)和所述第二反应基座(130)位于同一水平高度。

3.根据权利要求1所述的外延生长装置,其特征在于,所述出气部(114)位于所述炉体(110)的中部,且所述炉体(110)关于所述出气部(114)中心线所在的竖直平面呈镜像对称。

4.根据权利要求1所述的外延生长装置,其特征在于,还包括供气组件,所述供气组件用于提供反应介质,所述供气组件分别连通所述第一进气部(112)和所述第二进气部(113),且通过所述第一进气部(112)的反应介质的径流量等于通过所述第二进气部(113)的反应介质的径流量。

5.根据权利要求1所述的外延生长装置,其特征在于,还包括旋转组件(150),所述旋转组件(150)分别连接所述第一反应基座(120)和所述第二反应基座(130),且所述旋转组件(150)能够分别驱动所述第一反应基座(120)和所述第二反应基座(130)同步自转。

6.根据权利要求5所述的外延生长装置,其特征在于,所述旋转组件(150)包括旋转驱动电机(151)、旋转传动蜗轮、旋转传动蜗杆(153)、第一转动杆(154)和第二转动杆(155),所述旋转传动蜗轮连接于所述旋转驱动电机(151)的输出轴,所述旋转传动蜗杆(153)的中部区域啮合连接所述旋转传动蜗轮,以使所述旋转驱动电机(151)驱动所述旋转传动蜗轮带动所述旋转传动蜗杆(153)自转;

所述旋转传动蜗杆(153)的两端分别啮合连接所述第一转动杆(154)和所述第二转动杆(155),以分别带动所述第一转动杆(154)和所述第二转动杆(155)自转,所述第一转动杆(154)远离所述旋转传动蜗杆(153)的一端连接所述第一反应基座(120),以带动所述第一反应基座(120)围绕中心轴自转,述第二转动杆(155)远离所述旋转传动蜗杆(153)的一端连接所述第二反应基座(130),以带动所述第二反应基座(130)围绕中心轴自转。

7.根据权利要求1所述的外延生长装置,其特征在于,还包括升降组件(160),所述升降组件(160)与所述第一反应基座(120)沿着竖直方向活动配合,以控制设于所述第一反应基座(120)上的硅片(500)与所述第一反应基座(120)在竖直方向上的间距;所述升降组件(160)与所述第二反应基座(130)沿着竖直方向活动配合,以控制设于所述第二反应基座(130)上的硅片(500)与所述第二反应基座(130)在竖直方向上的间距。

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