[发明专利]一种样品夹具及测试方法在审
申请号: | 202210424988.9 | 申请日: | 2022-04-21 |
公开(公告)号: | CN114755254A | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
发明(设计)人: | 吴园园;金传伟;张继明 | 申请(专利权)人: | 江苏省沙钢钢铁研究院有限公司 |
主分类号: | G01N23/20025 | 分类号: | G01N23/20025;G01N23/20008;G01N23/203 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 郑越 |
地址: | 215625 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 样品 夹具 测试 方法 | ||
本发明提供了一种样品夹具及测试方法,属于试验器具技术领域,克服了现有技术中的样品载台安装、转移过程中易脱落、易变形、便利性差、耗时长、效率低的缺陷,从而提供一种样品夹具及测试方法。本发明中的样品夹具,包括:底座,所述底座设置有凹槽,所述凹槽的深度小于样品载台的高度,以暴露所述样品载台的承载部位;引导结构,可拆卸的安装在所述底座上,所述引导结构具有与所述凹槽连通设置的滑槽和贴附在所述底座的一侧的支撑板,所述滑槽适于引导样品载台在重力作用下滑动至所述凹槽中。
技术领域
本发明属于试验器具技术领域,具体涉及一种样品夹具及测试方法。
背景技术
目前研究材料的晶体取向分析主要通过三个手段:(1)利用X光衍射或中子衍射进行宏观统计分析;(2)利用透射电镜(TEM)的电子衍射进行微区晶体结构分析;(3)利用扫描电镜(SEM)中的电子背散射衍射(EBSD)技术进行微区的晶体取向分析。
传统的EBSD分析由于分析区域大,获得的晶粒数量多,被广泛采用,但是受到信号激发区域的限制,其空间分辨率较低(100nm)。有研究者尝试将透射信号应用于传统的EBSD技术中,称为透射式电子背散射衍射技术(t-EBSD),该技术能够应用于小于50nm的晶粒、晶界特性研究及大变形量的样品分析。
t-EBSD分析采用的样品通常为直径3mm的透射电镜样品,由于其制备出的样品位置随机,因此适用于观察均匀的组织;聚焦离子束(FIB)制备方法主要应用于对观察区域有特定需求的样品,可以精准定位到特定感兴趣区域,该方法目前已被广泛应用于材料分析领域。常规的FIB制备TEM样品进行t-EBSD分析时,有以下缺点:(1)放置半铜网时,由于放置区域小且半铜网夹持不方便,导致安装困难,半铜网易脱落,易变形;(2)t-EBSD分析时半铜网需要转移到t-EBSD专用样品台上,取放样品时存在铜网变形和样品从铜网脱落等问题,同时便利性差,耗时长,效率低。
发明内容
因此,本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中的样品载台(即半铜网)安装、转移过程中易脱落、易变形、便利性差、耗时长、效率低的缺陷,从而提供一种样品夹具及测试方法。
为此,本发明提供了以下技术方案。
一方面,本发明提供了一种样品夹具,包括:
底座,所述底座设置有凹槽,所述凹槽的深度小于样品载台的高度,以暴露所述样品载台的承载部位;
引导结构,可拆卸的安装在所述底座上,所述引导结构具有与所述凹槽连通设置的滑槽和贴附在所述底座的一侧的支撑板,所述滑槽适于引导样品载台在重力作用下滑动至所述凹槽中。
进一步的,还包括固定结构,所述凹槽远离所述支撑板的侧壁设有开口,所述固定结构与所述支撑板相对设置,以封闭所述开口。
进一步的,所述凹槽、开口和样品载台均为弧形。
进一步的,还包括设于所述凹槽中的压块,所述压块和所述样品载台在垂直于所述凹槽槽深方向上的宽度之和等于所述凹槽在该方向上的宽度。
进一步的,所述固定结构包括与所述底座贴合设置的固定板和依次贯穿所述固定板、底座设置的紧固件。
进一步的,所述底座上设有支撑台,所述固定板设于所述支撑台上。
进一步的,所述支撑板上设有滑槽或滑块,相应的,所述底座上设有滑块或滑槽。
另一方面,本发明还提供了一种测试方法,采用上述样品夹具进行测试,包括以下步骤:
先将样品载台经引导结构的滑槽放置到底座的凹槽中,然后将样品与样品载台固定,对该样品进行处理后,再将底座倾斜预定角度,进行测试。
进一步的,所述预定角度为60~80°。
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