[发明专利]一种基于双暗斑联合抑制的超分辨光刻方法及光刻胶有效
| 申请号： | 202210417713.2 | 申请日： | 2022-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN114527629B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;邱毅伟;丁晨良 | 申请（专利权）人： | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/027 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 奚丽萍 |
| 地址： | 310023 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 双暗斑 联合 抑制 分辨 光刻 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于双暗斑联合抑制的超分辨光刻方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：将两个抑制暗斑与激发光斑同时聚焦于光刻胶上，并且保持三个光斑的中心重合，所述抑制暗斑的强度分布为中心强度为0的圆环形光斑或者中心强度为0的“X”形光斑，所述激发光斑的强度分布为高斯分布；
S2：以激发光斑中心点为参照，将两个抑制暗斑的中心沿着与刻写方向垂直的方向进行移动，移动范围为0到抑制暗斑的半个波长，两个抑制暗斑中心与激发光斑中心的距离相等；
S3：提升两个抑制暗斑的能量，使两个抑制暗斑叠加后强度分布的最大值与步骤S1中重合时强度的最大值相等；
S4：利用此三个光斑形成的刻写点进行激光直写，刻写过程中，当沿X方向进行刻写时，两个抑制暗斑沿Y方向移动；当沿Y方向进行刻写时，两个抑制暗斑沿X方向移动；
S5：根据实际刻写的图形，结合以上刻写方式，实现超分辨光刻。
2.根据权利要求1所述一种基于双暗斑联合抑制的超分辨光刻方法，其特征在于，所述抑制暗斑的波长范围为405 nm至780 nm。
3.根据权利要求1所述一种基于双暗斑联合抑制的超分辨光刻方法，其特征在于，所述激发光斑为波长范围为405 nm至780 nm的飞秒激光光束。
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